Рассмотрены особенности электрофизических свойств n(p)-Hg1-xCdxTe (x = 0,21–0,23) с диэлектриками Al2O3 или SiO2/Si3N4. Пленки HgCdTe были выращены методом молекулярнолучевой эпитаксии на подложках из GaAs(013) и Si (013). Обсуждены возможности определения основных параметров МДП-структур на основе n(p)-Hg1-xCdxTe (x = 0,21–0,23) с варизонным слоем и без варизонного слоя из адмиттанса структур, измеренного в широком диапазоне температур и частот.
The peculiarities of the electrical properties of n(p)-Hg1-xCdxTe (x = 0.21–0.23) with the Al2O3 or SiO2/Si3N4 insulator were considered. The HgCdTe films were grown by molecular beam epitaxy on substrates of GaAs (013) and Si (013). The possibilities of determining the main parameters of the MIS structures based on n(p)-Hg1-xCdxTe (x = 0.21–0.23) with and without graded-gap layers from admittance measurements in wide temperature and frequency ranges were discussed.
Предпросмотр статьи
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
- eLIBRARY ID
- 28409427