Статья: Aдмиттанс МДП-структур на основе МЛЭ Hg1-xCdxTe (x = 0,21–0,23) в широком диапазоне температур (2017)

Читать онлайн

Рассмотрены особенности электрофизических свойств n(p)-Hg1-xCdxTe (x = 0,21–0,23) с диэлектриками Al2O3 или SiO2/Si3N4. Пленки HgCdTe были выращены методом молекулярнолучевой эпитаксии на подложках из GaAs(013) и Si (013). Обсуждены возможности определения основных параметров МДП-структур на основе n(p)-Hg1-xCdxTe (x = 0,21–0,23) с варизонным слоем и без варизонного слоя из адмиттанса структур, измеренного в широком диапазоне температур и частот.

The peculiarities of the electrical properties of n(p)-Hg1-xCdxTe (x = 0.21–0.23) with the Al2O3 or SiO2/Si3N4 insulator were considered. The HgCdTe films were grown by molecular beam epitaxy on substrates of GaAs (013) and Si (013). The possibilities of determining the main parameters of the MIS structures based on n(p)-Hg1-xCdxTe (x = 0.21–0.23) with and without graded-gap layers from admittance measurements in wide temperature and frequency ranges were discussed.

Ключевые фразы: МДП-структура, HgCdTe, молекулярно-лучевая эпитаксия, альтернативные подложки, адмиттанс, варизонный слой
Автор (ы): Войцеховский Александр Васильевич, Кульчицкий Николай Александрович, Несмелов Сергей Николаевич, Дзядух Станислав Михайлович
Журнал: УСПЕХИ ПРИКЛАДНОЙ ФИЗИКИ

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.315.592. Полупроводники
eLIBRARY ID
28409427
Для цитирования:
ВОЙЦЕХОВСКИЙ А. В., КУЛЬЧИЦКИЙ Н. А., НЕСМЕЛОВ С. Н., ДЗЯДУХ С. М. AДМИТТАНС МДП-СТРУКТУР НА ОСНОВЕ МЛЭ HG1-XCDXTE (X = 0,21–0,23) В ШИРОКОМ ДИАПАЗОНЕ ТЕМПЕРАТУР // УСПЕХИ ПРИКЛАДНОЙ ФИЗИКИ. 2017. ТОМ 5, №1
Текстовый фрагмент статьи
Моя история просмотров (9)