С целью получения и сравнения основных фотоэлектрических характеристик МФПУ в пределах одной крупноформатной матрицы, разработаны топологии тестовых матричных структур на основе InSb с квадратной и круглой формами фоточувствительной области, шагом элементов 10, 12, 15 и 20 мкм, предназначенных для гибридизации с БИС считывания формата 12801024 и шагом 12 мкм. Представлена структура комплекта фотошаблонов с матричными тестовыми элементами для реализации клиновидного утоньшения с целью получения сверхтонких структур с контролируемой толщиной для повышения прочности и минимизации взаимосвязи. Проанализированы возможности реализации предложенных тестовых структур.
The topology of squares mesa and rounded mesa of testing array patterns with 10, 12, 15 and 20 m pitch based on InSb intended for hybridization with 12 m pitch 12801024 ROIC for research of basic photo-electric characteristics in single FPA large-format are developed. The structure of a complete set of photomasks with distribution over the area of testing array patterns for realization wedge-like thinning is presented in order to obtain ultra-thin structures with a controlled thickness over the area with to increase strength and minimize the crosstalk. Possibilities of realization of the offered testing array patterns are analysed.
Предпросмотр статьи
Идентификаторы и классификаторы
- УДК
- 53. Физика
- Префикс DOI
- 10.51368/1996-0948-2025-5-25-32