Статья: Оптимизация толщины фоточувствительного слоя матричного фотоприемного устройства на основе антимонида индия (2020)

Читать онлайн

Оптимизирована толщина матричных фотоприемных устройств средневолнового диапазона формата 640512 элементов с шагом 15 мкм на основе антимонида индия. Измерены интегральные распределения толщины и разброса толщины по площади матричного фоточувствительного элемента. Определена оптимальная толщина из сравнения зависимостей интегральных распределений толщины объемной структуры утоньшенного антимонида индия с оценкой видимости миры в МФПУ.

Photosensitive layer thickness in 640512 midwave range InSb FPA with pitch
15 m is optimized. The integral distributions of thickness and deviation of thickness along the FPA area for previous and improved technology are measured. Optimal InSb bulk structure thickness in FPA from the estimation of visibility test pattern is determined.

Ключевые фразы: МФПУ, антимонид индия, ПРОСТРАНСТВЕННОЕ РАЗРЕШЕНИЕ, утоньшение, фотоэлектрическая взаимосвязь, оптимальная толщина, диффузионная длина, focal plane array, FPA, indium antimonide, photosensitive, thinning, diffusion length, crosstalk, optimal thickness
Автор (ы): Лопухин Алексей Алексеевич, Болтарь Константин Олегович, Власов Павел Валентинович, Ерошенко Григорий Николаевич, Ларионов Никита Александрович
Журнал: УСПЕХИ ПРИКЛАДНОЙ ФИЗИКИ

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.315.59. Проводники с особо высоким сопротивлением. Полупроводники
621.383.4. Фотоэлементы с внутренним фотоэффектом. Фоторезисторы
621.383.5. Фотоприемники с запирающим слоем
eLIBRARY ID
44190045
Для цитирования:
ЛОПУХИН А. А., БОЛТАРЬ К., ВЛАСОВ П. В., ЕРОШЕНКО Г. Н., ЛАРИОНОВ Н. А. ОПТИМИЗАЦИЯ ТОЛЩИНЫ ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНОГО СЛОЯ МАТРИЧНОГО ФОТОПРИЕМНОГО УСТРОЙСТВА НА ОСНОВЕ АНТИМОНИДА ИНДИЯ // УСПЕХИ ПРИКЛАДНОЙ ФИЗИКИ. 2020. ТОМ 8, № 5
Текстовый фрагмент статьи