Особенности формирования скрытого свинцово-силикатного слоя в монокристаллическом кремнии (2023)

Исследовался процесс ионно-лучевого синтеза структур «кремний-на-изоляторе», основанный на двухстадийной имплантации, сначала ионов кислорода, затем ионов свинца в качестве стеклообразователя. С помощью методов вторичной ионной масс-спектрометрии и оже-спектроскопии анализировались фазовые преобразования, про-исходящие в синтезируемом скрытом слое при постимплантационном отжиге.
Обнаружено, что с началом термообработки происходит быстрый спинодальный распад твердого раствора SiOx–PbOx, образовавшегося на стадии имплантации.
Затем начинается процесс медленной релаксации на фоне «восходящей» диффузии атомов свинца. При этом скрытый слой изолятора уплотняется и выравнивается по толщине. В конечном итоге он формируется в виде трехслойной структуры, средняя ее часть является оксидом кремния, легированного свинцом, боковые части состоят из свинцово-силикатной фазы.

The process of ion-beam synthesis of “silicon-on-insulator” structures, based on two-stage im-plantation, first of oxygen ions, then of lead ions as a glass former, was studied. Using the methods of secondary ion mass spectrometry and Auger spectroscopy, the phase transfor-mations occurring in the synthesized hidden layer during post-implantation annealing were analyzed. It was found that with the onset of heat treatment, a rapid spinodal decomposition of the SiOx–PbOx. solid solution formed at the stage of implantation occurs. Then the process of slow relaxation begins against the background of “ascending” diffusion of lead atoms. In this case, the hidden layer of the insulator is compacted and leveled in thickness. Ultimately, it is formed in the form of a three-layer structure, its middle part is silicon oxide doped with lead, the side parts consist of a lead-silicate phase.

Тип: Статья
Автор (ы): Бучин Эдуард Юрьевич
Соавтор (ы): Денисенко Юрий Иванович
Ключевые фразы: спинодальный распад

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.315.592. Полупроводники
Префикс DOI
10.51368/1996-0948-2023-4-95-99
eLIBRARY ID
54370010
Текстовый фрагмент статьи