Статья: ОЦЕНКА ВЛИЯНИЯ ДОПУСКОВ НА ИЗГОТОВЛЕНИЕ БЫСТРОДЕЙСТВУЮЩИХ МАГНИТНЫХ ОТКЛОНЯЮЩИХ СИСТЕМ НА СИММЕТРИЮ ОТКЛОНЯЮЩИХ ПОЛЕЙ (1998)

Читать онлайн

Приводится методика расчёта и анализ результатов по влиянию допусков на отклонение реального поля быстродействующих магнитных отклоняющих систем от расчётного. Оценено нарушение симметрии магнитного поля при сдвиге, удлинении и изгибе отдельных проводников магнитных отклоняющих систем и стигматоров

The methods and program product for the calculation of magnetic electronic lens aberration, caused by the unprecision of fabrication and alignment of pole pieces are presented. The channel ellipticity and the relative shift of channels in pole pieces influence on aberration coefficients and radiuses of aberration circle dispersion are estimated

Ключевые фразы: электронные микроскопы, электронная оптика, магнитные отклоняющиеся системы
Автор (ы): Розенфельд Л. Б. (Rozenfeld L. B.), Васичев Борис Никитович, Зотова М. О.
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.385.833.2. Электронные микроскопы
Для цитирования:
РОЗЕНФЕЛЬД Л. Б., ВАСИЧЕВ Б. Н., ЗОТОВА М. О. ОЦЕНКА ВЛИЯНИЯ ДОПУСКОВ НА ИЗГОТОВЛЕНИЕ БЫСТРОДЕЙСТВУЮЩИХ МАГНИТНЫХ ОТКЛОНЯЮЩИХ СИСТЕМ НА СИММЕТРИЮ ОТКЛОНЯЮЩИХ ПОЛЕЙ // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 1998. №3-4
Текстовый фрагмент статьи
Будьте первым, кто начнет обсуждение

Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.