Архив статей

ОЦЕНКА ВЛИЯНИЯ ДОПУСКОВ НА ИЗГОТОВЛЕНИЕ БЫСТРОДЕЙСТВУЮЩИХ МАГНИТНЫХ ОТКЛОНЯЮЩИХ СИСТЕМ НА СИММЕТРИЮ ОТКЛОНЯЮЩИХ ПОЛЕЙ (1998)

Приводится методика расчёта и анализ результатов по влиянию допусков на отклонение реального поля быстродействующих магнитных отклоняющих систем от расчётного. Оценено нарушение симметрии магнитного поля при сдвиге, удлинении и изгибе отдельных проводников магнитных отклоняющих систем и стигматоров

Анализ факторов, влияющих на точность измерения электронной яркости (1998)

Рассмотрены вопросы количественной оценки ошибок измерения электронной яркости различными методами. Показано, что основная ошибка, возникающая при использовании линзового метода, является следствием неправомерного предположения, что при размещении апертурной диафрагмы в главной плоскости линзы апертурный угол в плоскости изображения может быть вычислен как отношение радиуса диафрагмы к расстоянию между диафрагмой и плоскостью изображения. Проведена количественная оценка ошибки такого приближения и показано, что ошибка расчета апертуры зависит от конструкции измерительной системы, а ошибка определения яркости может достигать +100 %.