Проведены исследования матричных фотоприемных устройств формата 320256 элементов на основе четырехслойных гетероструктур р+-B-n-N+-типа с широкозонным барьерным слоем. Гетероэпитаксиальные структуры (ГЭС) с поглощающим узкозонным слоем InGaAs n-типа проводимости выращивались методами мосгидридной эпитаксии (МОСГЭ) на подложках InP. С помощью четырехкомпонентного тонкого слоя AlInGaAs n-типа с градиентным изменением ширины запрещенной зоны устранен разрыв между поглощающим (In0,53Ga0,47As) и барьерным (In0,52Al0,48As) слоями. Использование дельта-легированных слоев в составе гетероструктуры позволило уменьшить барьер в валентной зоне и устранить немонотонность энергетических уровней. Проведены экспериментальные исследования темнового тока, среднее значение которого по матрицам фотодиодов с шагом 30 мкм не превышало 10 фА.
SWIR 320256 FPAs based on р+-B-n-N+-heterostructures with InGaAs absorber and InAlAs barrier layers have been developed and investigated. The InGaAs/InAlAs heterostructures are formed by Metal Organic Vapor Phase Epitaxy (MOVPE) on the n+ type InP substrates. The band discontinuity between absorber In0.53Ga0.47As- and barrier In0.52Al0.48As layers was removed by grown AlInGaAs thin n-layer with gradient composition. Delta-doped layers including into heterostructure are used for barrier smoothing and energy discontinuity removing in valence band. The InGaAs/InP photodiodes performance has been estimated by measuring dark current. An average value of dark current over the photodiode arrays did not exceeded 10 fA.
Предпросмотр статьи
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
- eLIBRARY ID
- 27218196