Статья: Вольт-амперные характеристики nBp-структур с поглощающим слоем In0,53Ga0,47As (2017)

Читать онлайн

Актуальной задачей фотоэлектроники является создание матричных фотоприемных устройств (МФПУ) ближнего инфракрасного диапазона спектра на эпитаксиальных слоях InхGa1-хAs/InP мегапиксельного формата. В статье представлены результаты исследований ВАХ элементов в матрицах ФЧЭ формата 320×256 с шагом 30 мкм на основе гетероэпитаксиальных структур с поглощающим слоем InGaAs на подложках InP коротковолнового ИК-диапазона. Матрицы ФЧЭ изготовлены по планарной, меза и мезапланарной технологиям на nB(Al0,48In0,52As)p-cтруктурах. Показано, что в матрицах, изготовленных по мезапланарной технологии на nB(Al0,48In0,52As)p-структурах, успешно сочетаются малые темновой ток и ампер-ваттная чувствительность к ИК-излучению диапазона 1–1,7 мкм при низких напряжениях смещения. Электрофизические параметры функциональных слоев исходных гетероэпитаксиальных nBp-структур эффективно влияют на темновые токи и амперваттную чувствительность элементов матриц. На основе проведенных исследований оптимизированы параметры функциональных слоев nB(Al0,48In0,52As)p-структур и изготовлены высокоэффективные матрицы фотодиодов форматов 320×256 с шагом 30 мкм и 640×512 с шагом 15 мкм с дефектностью, не превышающей 0,5 %.

Results of researches current-voltage characteristic of elements in Focal Plane Array (FPA) format 320×256 with a step of 30 microns on the basis of heteroepitaxial structures with the absorbing InGaAs layer on InP substrates of a short-wave infrared range are presented in article. FPA are made on planar, mesa and mesa-planar on nB(Al0.48In0.52As)p-structures technologies. It is shown that in FPA made on mesa-planar technology on nB(Al0.48In0.52As)p-structures are successfully combined small dark current and ampere-watt sensitivity to infrared of the range of 1–1.7 microns at low bias voltage. Electrophysical parameters of functional layers heteroepitaxial nBp structures effectively influence to dark currents and ampere-watt sensitivity of elements FPA. On the basis of the researches, the parameters of the nB(Al0.48In0.52As)p-structure of functional layers were optimized, and FPA formats 320×256 with a step of 30 microns and 640×512 with a step of 15 microns with a defect not exceeding 0.5 % were fabricated.

Ключевые фразы: InGaAs, матричное фотоприемное устройство, матрица фоточувствительных элементов, гетероэпитаксиальные структуры, ВОЛЬТ-АМПЕРНАЯ ХАРАКТЕРИСТИКА, темновой ток, ампер-ваттная чувствительность
Автор (ы): Седнев Михаил Васильевич, Болтарь Константин Олегович, Иродов Никита Александрович, Демидов Станислав Стефанович
Журнал: УСПЕХИ ПРИКЛАДНОЙ ФИЗИКИ

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.315.59. Проводники с особо высоким сопротивлением. Полупроводники
eLIBRARY ID
29934021
Для цитирования:
СЕДНЕВ М. В., БОЛТАРЬ К., ИРОДОВ Н. А., ДЕМИДОВ С. С. ВОЛЬТ-АМПЕРНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ NBP-СТРУКТУР С ПОГЛОЩАЮЩИМ СЛОЕМ IN0,53GA0,47AS // УСПЕХИ ПРИКЛАДНОЙ ФИЗИКИ. 2017. ТОМ 5, №4
Текстовый фрагмент статьи