Статья: Поверхностный плазмонный резонанс как средство контроля в системах управления ростом металлических и диэлектрических плёнок (2017)

Читать онлайн

Процесс нанесения металлических или диэлектрических плёнок и контроль их толщины и качества часто определяет успех или неуспех эксперимента. Измерение толщины обеспечивают соответствующие датчики, устанавливаемые в непосредственной близости от подложки. Кроме того, известно, что функциональные возможности любой напылительной системы повышаются при подаче отрицательного напряжения смещения на подложку. Это позволяет получать пленки более высокой чистоты, управлять параметрами кристаллической структуры и другими свойствами плёнок. При возникновении на подложке отрицательного потенциала смещения в момент подачи на неё высокочастотного (ВЧ) напряжения происходит направленное движение в сторону растущей плёнки положительно заряженных ионов рабочего газа, что приводит к травлению поверхности. В данной работе для создания устройства контроля толщины были объединены два физических процесса: травление подложки при подаче на неё отрицательного смещения и оптический метод контроля растущей плёнки. Лежащий в основе системы контроля роста пленок оптический метод делает предложенное устройство в значительной степени универсальным.

The process of applying metallic or dielectric films and monitoring their thickness and quality often determines the success or failure of the experiment. Thickness measurements are provided by suitable sensors installed in the immediate vicinity of the substrate. In addition, it is known that the functionality of any sputtering system is enhanced by applying a negative bias voltage to the substrate. This allows to obtain films of higher purity, to control the parameters of the crystal structure and other properties of the films. When a negative bias potential occurs near the substrate at the moment of applying a highfrequency (RF) voltage to it, a directed movement toward the growing film of positively charged ions of the working gas occurs, which leads to etching of the surface. In this paper, to create a thickness control device, two physical processes were combined: undercutting the substrate with a negative bias applied to it and an optical method for controlling the growing film.

Ключевые фразы: тонкие плёнки, лазерное излучение, поверхностный плазмонный резонанс, контроль толщины
Автор (ы): Валянский Сергей Иванович, Виноградов Сергей Владимирович, Кононов Михаил Анатольевич, Кононов Владимир Михайлович, Савранский Валерий Васильевич, Тишков Виктор Васильевич
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
535.016. Оптические явления, зависящие от свойств поверхностей раздела
eLIBRARY ID
32232062
Для цитирования:
ВАЛЯНСКИЙ С. И., ВИНОГРАДОВ С. В., КОНОНОВ М. А., КОНОНОВ В. М., САВРАНСКИЙ В. В., ТИШКОВ В. В. ПОВЕРХНОСТНЫЙ ПЛАЗМОННЫЙ РЕЗОНАНС КАК СРЕДСТВО КОНТРОЛЯ В СИСТЕМАХ УПРАВЛЕНИЯ РОСТОМ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ И ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПЛЁНОК // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2017. №6
Текстовый фрагмент статьи
Моя история просмотров (1)