Читать онлайн

Рассмотрена возможность создания диода с барьером Шоттки на GaP с низкой высотой барьера для реализации возможности работы в качестве обнаружителя мощных оптических сигналов в среднем ИК-диапазоне. Были проведены исследования влияния увеличения концентрации носителей заряда в области контакта на высоту барьера. В структуру GaP n- и pтипа проводимости были имплантированы различные ионы при разных дозах и энергиях с последующим отжигом в течении 60 минут при температуре 700 оС в азотной среде. Были исследованы CV-характеристики образцов, по результатам которых были определены высоты барьеров. Полученные результаты подтвердили теоретические расчёты. В работе показано, что необходимое снижение высоты барьера «металл–полупроводник» для сдвига спектральной чувствительности GaP в инфракрасную область, может быть получено путем подлегирования контактной области эпитаксиального слоя n-типа проводимости ионами Si с энергией 100 кэВ и дозой (флюенсом) 41014 см-2 с последующим отжигом имплантированного слоя в течении 60 минут в атмосфере N2 при температуре 700 °С. В качестве барьерного металла может быть использована золотая плёнка, напылённая в вакууме. Результаты исследования показали, что увеличения концентрации носителей заряда в области контакта до значений около 1019 см-3 даёт возможность снижения высоты барьера Au-n-GaP до 0,2 эВ.

Consideration is given to the possibility of creation of a diode with the Schottky barrier on the GaP with a low barrier height. It is necessary for realizing a two-channel photodetector of UV and middle IR radiation. The effect of an increase in the concentration of charge carriers in the contact region on height of the barrier was investigated. Different types of ions were implanted into the GaP n- and p-type conductivity structures at different doses and energies, followed by annealing for 60 minutes at a temperature of 700 oC in a nitrogen atmosphere. The CV characteristics of the samples were investigated, the results of which determined the height of the barriers. The results obtained confirmed theoretical calculations. It is shown that the necessary reduction in the decrease in the height of the metal – semiconductor barrier for shifting the spectral sensitivity GaP into the infrared region can be obtained by subordinating the contact region of the n – type epitaxial layer with ions Si of energy 100 keV and a dose of 41014 sm-2 with the subsequent annealing of the implanted layer in for 60 minutes under nitrogen at 700 oC. A gold foil sputtered in a vacuum can be used as a barrier metal. The results of the investigation showed that an increase in the concentration of charge carriers in the contact region to values of about 1019 sm-3 makes it possible to reduce the barrier height Au-n-GaP to 0.2 eV.

Ключевые фразы: gap, барьер шоттки, фотоприемник, имплантация, концентрация носителей, cv характеристики
Автор (ы): Будтолаев Андрей Константинович, Хакуашев Павел Евгеньевич, Чинарева Инна Викторовна
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.315.5. Проводники и полупроводники по виду материала
eLIBRARY ID
30484012
Для цитирования:
БУДТОЛАЕВ А. К., ХАКУАШЕВ П. Е., ЧИНАРЕВА И. В. ФОТОДИОД НА ОСНОВЕ GAP ДЛЯ СРЕДНЕГО ИК-ДИАПАЗОНА // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2017. №5
Текстовый фрагмент статьи