Формирование квазидвумерных слоев наночастиц висмута в эпитаксиальных пленках арсенида галлия (2024)

Путем дельта-легирования висмутом слоёв арсенида галлия в процессе низкотемпературной молекулярно-лучевой эпитаксии с последующим отжигом получены квазидвумерные слои наночастиц висмута в матрице эпитаксиального арсенида галлия. Низкая температура эпитаксии обеспечивает формирование в объеме материала высокой концентрации дефектов нестехиометрии, в первую очередь антиструктурных дефектов [AsGa] и вакансий галлия. Миграция этих дефектов в процессе отжига приводит к формированию как мелких преципитатов в слоях низкотемпературного GaAs, так и более крупных нановключений, обогащенных висмутом и расположенных на дельта-слоях Bi.

Тип: Статья
Автор (ы): Поленок Е.Д.
Соавтор (ы): БЕРТ НИКОЛАЙ АЛЕКСЕЕВИЧ, ИВАНОВ АЛЕКСЕЙ АЛЕКСАНДРОВИЧ, СНИГИРЕВ ЛЕОНИД АЛЕКСЕЕВИЧ, УШАНОВ ВИТАЛИЙ ИГОРЕВИЧ, ПРЕОБРАЖЕНСКИЙ ВАЛЕРИЙ ВЛАДИМИРОВИЧ, ПУТЯТО МИХАИЛ АЛЬБЕРТОВИЧ, СЕМЯГИН БОРИС РЭМОВИЧ, ЯГОВКИНА МАРИЯ АЛЕКСАНДРОВНА, ЧАЛДЫШЕВ ВЛАДИМИР ВИКТОРОВИЧ
Ключевые фразы: нестехиометрический GaAsBi, молекулярно-лучевая эпитаксия, преципитация, рентгеновсквя дифрактометрия, просвечивающая электронная микроскопия, оптическое поглощение

Идентификаторы и классификаторы

УДК
621.315. Передача электрической энергии. Провода и кабели, используемые для передачи энергии и для связи. Проводники. Электроизоляционные материалы. Линейная арматура. Сооружение линий электропередачи
Текстовый фрагмент статьи