Архив статей журнала

Магнитные свойства бикомпонентных наночастиц CuO-CuFe2O4, полученных методом дугового испарения (2024)
Выпуск: том 66, № 9 (2024)
Авторы: Волков М.П., ЯГОВКИНА МАРИЯ АЛЕКСАНДРОВНА, Седов В.П., Лисаевич Н.А, Здешнев Д.С.

Методом дугового испарения получены бикомпонентные наночастицы CuO-CuFe2O4 с содержанием CuFe2O4 порядка 20%. Рентгеновское исследование показало, что в образцах содержатся только наночастицы CuO размером 54 nm и CuFe2O4 размером 32 nm. Температурные зависимости намагниченности наночастиц M(T) имеют вид, характерный для суперпарамагнитного состояния с температурой блокировки выше 400 K при H=100 Oe. Полевые зависимости намагниченности M(H) показывают высокие значения намагниченности насыщения при всех исследованных температурах. В малых полях зависимости M(H) имеют гистерезисный характер, и при низкой температуре петля имеет особенности, связанные с разными вкладами в намагниченность от центральной части бикомпонентной частицы (CuFe2O4) и от периферийной части, примыкающей к CuO. Использованный метод синтеза с использованием дугового разряда позволяет эффективно получать бикомпонентные частицы, близкие по размеру и с высокими значениями намагниченности вплоть до температуры 400 K.

Сохранить в закладках
Формирование квазидвумерных слоев наночастиц висмута в эпитаксиальных пленках арсенида галлия (2024)
Выпуск: том 66, № 9 (2024)
Авторы: Поленок Е.Д., БЕРТ НИКОЛАЙ АЛЕКСЕЕВИЧ, ИВАНОВ АЛЕКСЕЙ АЛЕКСАНДРОВИЧ, СНИГИРЕВ ЛЕОНИД АЛЕКСЕЕВИЧ, УШАНОВ ВИТАЛИЙ ИГОРЕВИЧ, ПРЕОБРАЖЕНСКИЙ ВАЛЕРИЙ ВЛАДИМИРОВИЧ, ПУТЯТО МИХАИЛ АЛЬБЕРТОВИЧ, СЕМЯГИН БОРИС РЭМОВИЧ, ЯГОВКИНА МАРИЯ АЛЕКСАНДРОВНА, ЧАЛДЫШЕВ ВЛАДИМИР ВИКТОРОВИЧ

Путем дельта-легирования висмутом слоёв арсенида галлия в процессе низкотемпературной молекулярно-лучевой эпитаксии с последующим отжигом получены квазидвумерные слои наночастиц висмута в матрице эпитаксиального арсенида галлия. Низкая температура эпитаксии обеспечивает формирование в объеме материала высокой концентрации дефектов нестехиометрии, в первую очередь антиструктурных дефектов [AsGa] и вакансий галлия. Миграция этих дефектов в процессе отжига приводит к формированию как мелких преципитатов в слоях низкотемпературного GaAs, так и более крупных нановключений, обогащенных висмутом и расположенных на дельта-слоях Bi.

Сохранить в закладках