Представлены устройства для прямого измерения потенциала плазмы и плавающего потенциала в газовом разряде в системе реактивного ионно-плазменного травления.
В основе действия разработанных для этого устройств лежит создание локального магнитного поля, позволяющего целенаправленно менять условия амбиполярной диффузии заряженных частиц. Это дает возможность осуществлять выравнивание потенциалов зонда и тела положительного столба плазмы. Проведено сравнение результатов измерения потенциала плазмы предлагаемым и альтернативным методами.
Devices for direct measurement of the plasma potential and floating potential in a gas discharge in a reactive ion-plasma etching system are presented. The action of the devices developed for this purpose is based on the creation of a local magnetic field that allows purposefully changing the conditions of ambipolar diffusion of charged particles. This makes it possible to contact the probe with the body of a positive plasma column without the appearance of a floating potential on it. The results of measuring the plasma potential by the proposed and alternative methods are compared
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
- Префикс DOI
- 10.51368/1996-0948-2021-3-26-32
- eLIBRARY ID
- 46342892
Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.