Об импедансе высокочастотного емкостного разряда при различных способах возбуждения (2021)
Рассмотрена задача о емкостном ВЧ-разряде низкого давления ( << ) с электродами большой площади при возбуждении его электромагнитным полем частотой от 13 до 900 МГц. Получены общие аналитические формулы для амплитуд собственных волн и импеданса разряда. Учтено, что возбуждение поверхностных волн и высших нераспространяющихся мод происходит как благодаря осевой неоднородности структуры «плазма-слой-металл», так и за счет краевых эффектов у среза электрода. Более высокая амплитуда резонансных мод в сравнении с возбуждением разряда ТЕМ-волной в данном случае приводит к бо́льшей изрезанности зависимости импеданса разряда от плотности электронов. Данный вывод подтвержден прямым расчетом импеданса с помощью программы Comsol Multiphysics®.
Consideration is given to a low-pressure ( << ) capacitive high-frequency discharge with large-area electrodes when it is excited by an electromagnetic field with a frequency from 13 to 900 MHz. General analytical formulas are obtained for the amplitudes of natural waves and the impedance of the discharge. It is taken into account that the excitation of surface waves and higher nonpropagating modes occurs both due to the axial inhomogeneity of the plasma-metal layer structure and due to edge effects at the electrode cut. The higher amplitude of the resonance modes in this case (in comparison with the excitation of the discharge by a TEM wave) leads to a greater irregularity in the dependence of the discharge impedance on the elec-tron density. This conclusion is confirmed by the direct calculation of impedance using the Comsol Multiphysics® software.
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
- Префикс DOI
- 10.51368/1996-0948-2021-3-33-38
- eLIBRARY ID
- 46342893
Основные результаты работы могут быть сформулированы следующим образом.
-
Получены аналитические выражения для амплитуд собственных волн электромагнитного поля в трехслойной структуре при учете генерации в окрестности области воз-буждения не только ТЕМ-волны, но и высших нераспространяющихся мод электромагнитного поля.
-
Установлено, что наибольшая амплитуда высших мод, возбуждаемых непосредственно антенной, наблюдается в тех случаях, когда размер плазмы совпадает с размером электрода. В соответствии с формулой (5), фазы волн, возбуждаемых антенной и вследствие неоднородности могут быть различны, поэтому амплитуда высших мод вблизи резонанса будет зависеть также от соотношения этих фаз, что дает дополнительную возможность формирование заданного распределения электрического поля вдоль радиуса разрядной камеры.
-
Расчет импеданса разряда с помощью программы Comsol Multiphysics® показывает, что амплитуда резонансов увеличивается в условиях равенства размеров плазмы и элек-трода, и подтверждает возможность дополнительного управления пространственным распределением поля в плазме.
-
Положение резонансов, названных в работе [6] глобальными, так же как и в частном случае [6], зависит от параметров внешней цепи.
Список литературы
- Lieberman M. A., Lichtenberg A. J. Principles of Plasma Discharges and Material Processing. – N.-Y., Wiley, 2005.
- Perrin J., Schmitt J., Hollenstein C., Howling A. Sansonnens L. // Plasma Phys. Contr. Fusion. 2000. Vol. 42. P. B353.
- Schmitt J., Elyaakoubu M., Sansonnes L. // Plas-ma Sources Sci. technol. 2002. Vol. 11. P. A206.
- Park A. E., Cho B. U., Lee J. K. // IEEE Trans. Plasma Sci. 2003. Vol. 31. P. 628.
- Taillet J. // American J. of Phys. 1969. Vol. 37. P. 423.
- Liberman M. A., Booth J. P., Chabert P., Rax J. M., Turner M. M. // Plasma Sources Sci. Technol. 2002. Vol. 11. P. 283.
- Chabert P. // J. Phys. D.: Appl. phys. 2007. Vol. 40. P. R63.
- Двинин С. А., Синкевич О. А., Солихов Д. К., Кодирзода З. А. // Физика плазмы. 2021. Т. 47. C. 40.
- Двинин С. А., Синкевич О. А., Солихов Д. К., Кодирзода З. А. // Физика плазмы. 2021. Т. 47. C. 195.
- Двинин С. А., Синкевич О. А., Солихов Д. К., Кодирзода З. А. // Физика плазмы. 2020. Т. 46. C. 1094.
- Wilczek S., Schulze J., Brinkmann R. P., Donko Z., Trieschmann J., Mussenbrock T. // Journal of Applied Physics. 2020. Vol. 127. P. 181101.
- Zhang P., Zhang L., Lv K. // Plasma Chem. Plasma Process. 2020. Vol. 40. P. 1605.
- Zhang P., Zhang L., Xu L. // Plasma Process Polym. 2020. Vol. 17. P. 2000014.
- Doyle S. J., Gibson A. R., Boswell R. W., Charles C., Dedrick J. P. // Plasma Sources Sci. Technol. 2020. Vol. 29. P. 124002.
- Zhang Y. R., Hu Y. T., Wang Y. N. // Plasma Sources Sci. Technol. 2020. Vol. 29. P. 084003.
- Zhao K., Su Z. X., Liu J. R., Liu Y. X., Zhang Y. R., Schulze J., Song Y. H., Wang Y. N. // Plasma Sources Sci. Technol. 2020. Vol. 29. P. 124001.
- Korolov I., Leimkhler M., Boke M., Donko Z., Schulz-von der Gathen V. S., Bischo L., Hbner G., Hart-mann P., Gans T., Liu Y., Mussenbrock T., Schulze J. // Journal of Physics D: Applied Physics. 2020. Vol. 53. P. 185201.
- Hartmann P., Wang L., Nosges K., Berger B., Wilczek S., Brinkmann R. P., Mussenbrock T., Juhasz Z, Donko Z., Derzsi A., Lee E., Schulze J. // Plasma Sources Sci. Technol. 2020. Vol. 29. P. 075014.
- M. A. Lieberman and A. J. Lichtenberg, Principles of Plasma Discharges and Material Processing (Wiley, New-York, 2005).
- J. Perrin, J. Schmitt, Ch. Hollenstein, A. Howling, and L. Sansonnens, Plasma Phys. Contr. Fusion. 42, B353 (2000).
- J. Schmitt, M. Elyaakoubu, and L. Sansonnes, Plasma Sources Sci. technol. 11, A206 (2002).
- A. E. Park, B. U. Cho, and J. K. Lee, IEEE Trans. Plasma Sci. 31, 628 (2003).
- J. Taillet, American J. of Phys. 37, 423 (1969).
- M. A. Liberman, J. P. Booth, P. Chabert, J. M. Rax, and M. M. Turner, Plasma Sources Sci. Technol. 11, 283 (2002).
- P. Chabert, J. Phys. D.: Appl. Phys. 40, R63 (2007).
- S. A. Dvinin, O. A. Sinkevich, Z. A. Kodirzoda, and D. K. Solikhov, Plasma Phys. Rep. 47, 28 (2021).
- S. A. Dvinin, O. A. Sinkevich, Z. A. Kodirzoda, and D. K. Solikhov, Plasma Phys. Rep. 47, 211 (2021).
- S. A. Dvinin, O. A. Sinkevich, Z. A. Kodirzoda, and D. K. Solikhov, Plasma Phys. Rep. 46, 1181 (2020).
- S. Wilczek, J. Schulze, R. P. Brinkmann, Z. Donko, J. Trieschmann, and T. Mussenbrock, Journal of Applied Physics 127, 181101 (2020).
- P. Zhang, L. Zhang, and K. Lv, Plasma Chem. Plasma Process. 40, 1605, (2020).
- P. Zhang, L. Zhang, and L. Xu, Plasma Process. Polym. 17, 2000014 (2020).
- S. J. Doyle, A. R. Gibson, R. W. Boswell, C. Charles, and J. P. Dedrick, Plasma Sources Sci. Technol. 29, 124002 (2020).
- Y. R. Zhang, Y. T. Hu, and Y. N. Wang. Plasma Sources Sci. Technol. 29, 084003 (2020).
- K. Zhao, Z. X. Su, J. R. Liu, Y. X. Liu, Y. R. Zhang, J. Schulze, Y. H. Song, and Y. N. Wang, Plasma Sources Sci. Technol. 29, 124001 (2020).
- I. Korolov, M. Leimkhler, M. Boke, Z. Donko, V. S. Schulzvon der Gathen, L. Bischo, G. Hbner, P. Hartmann, T. Gans, Y. Liu, T. Mussenbrock, and J. Schulze, Journal of Physics D: Applied Physics 53, 185201 (2020).
- P. Hartmann, L. Wang, K. Nosges, B. Berger, S. Wilczek, R. P. Brinkmann, T. Mussenbrock, Z. Juhasz, Z. Donko, A. Derzsi, E. Lee, and J. Schulze, Plasma Sources Sci. Technol. 29, 075014 (2020).
Выпуск
С О Д Е Р Ж А Н И Е
ФИЗИКА ПЛАЗМЫ И ПЛАЗМЕННЫЕ МЕТОДЫ
Лебедев Ю. А., Татаринов А. В., Эпштейн И. Л., Титов А. Ю.
Особенности процессов в СВЧ-разряде в парах воды 5
Голятина Р. И., Майоров С. А.
Сечения столкновений электронов с атомами инертных газов 11
Свиридов А. Н., Сагинов Л. Д.
Тепловое излучение протяженных частиц с субволновыми поперечными размерами 17
Абрамов А. В.
Прямое измерение потенциалов в системе реактивного ионно-плазменного травления 26
Двинин С. А., Синкевич О. А., Кодирзода З. А., Солихов Д. К.
Об импедансе высокочастотного емкостного разряда при различных способах возбуждения 33
ФОТОЭЛЕКТРОНИКА
Зиенко С. И., Жбанова В. Л.
Фурье-анализ спектральных характеристик матричного фотоприемника в частотной и временной области 39
Стучинский В. А., Вишняков А. В.
Тонкая структура пространственных профилей фотоответа диода фотоприемной матрицы при сканировании им узкого линейного пятна засветки 47
ФИЗИЧЕСКОЕ МАТЕРИАЛОВЕДЕНИЕ
Мазинов А. С., Гурченко В. С., Тютюник А. С.
Вольт-амперные и спектральные характеристики гетероструктур водорастворимый фуллерен – 4-метилфенилгидразон N-изоамилизатина 54
ФИЗИЧЕСКАЯ АППАРАТУРА И ЕЁ ЭЛЕМЕНТЫ
Пщелко Н. С., Царёва О. С.
Физические основы использования электрического поля для повышения точности определения направления малых углов отклонений 60
Сафронов А. А., Кузнецов В. Е., Дудник Ю. Д., Ширяев В. Н., Васильева О. Б.
Плазменное получение ультрадисперсных оксидов железа и алюминия 66
Бритенков А. К., Фарфель В. А., Боголюбов Б. Н.
Сравнительный анализ электроакустических характеристик компактных низкочастотных гидроакустических излучателей высокой удельной мощности 72
Гибин И. С., Котляр П. Е.
Гелий-графеновый оптико-акустический преобразователь предельной чувствительности 78
C O N T E N T S
PLASMA PHYSICS AND PLASMA METHODS
Lebedev Yu. A., Tatarinov A. V., Epstein I. L., and Titov A. Yu.
Features of processes in a microwave discharge in water vapor 5
Golyatina R. I. and Maiorov S. A.
Cross sections of electron collisions with noble gases atoms 11
Sviridov A. N. and Saginov L. D.
Thermal radiation of extended particles with subwavelength transverse dimensions 17
Abramov A. V.
Direct measurement of potentials in a reactive ion-plasma etching system 26
Dvinin S. A., Sinkevich O. A., Kodirzoda Z. A., and Solikhov D. K.
On the impedance of a high-frequency capacitive discharge with different excitation methods 33
PHOTOELECTRONICS
Zienko S. I. and Zhbanova V. L.
Fourier analysis of spectral characteristics of a matrix photodetector in the frequency and time domain 39
Stuchinsky V. A. and Vishnyakov A. V.
Fine structure of spatial diode photoresponse profiles measured while scanning a narrow strip-shaped illumination spot with FPA diode 47
PHYSICAL SCIENCE OF MATERIALS
Mazinov A. S., Gurchenko V. S., and Tyutyunik A. S.
Current-voltage and spectral characteristics of heterostructures of fullerene-water system – N-isoamylisatin 4-methylphenylhydrazone 54
PHYSICAL APPARATUS AND ITS ELEMENTS
Pshchelko N. S. and Tsareva O. S.
Physical foundations of using an electric field to improve the accuracy of determining the direction of small angles of deviations 60
Safronov A. A., Kuznetsov V. E., Dudnik Yu. D., Shiryaev V. N., and Vasilieva O. B.
Plasma way to obtain ultrafine iron and aluminum oxides 66
Britenkov A. K., Farfel V. A., and Bogolyubov B. N.
Comparison and analysis of electroacoustic characteristics of high power density compact low frequency hydroacoustic transducers 72
Gibin I. S. and Kotlyar P. E.
Helium-graphene optical-acoustic converter of extreme sensitivity 78
Другие статьи выпуска
Рассматриваются существующие методы геодезического мониторинга деформаций и вызываемых ими отклонений. Показано, что за счет нестабильности положения груза, подвешенного на нити в достаточно сильном электрическом поле, возможно измерение направления отклонения контролируемого объекта даже при отклонении, стремящемся к нулю. Рассмотрена количественная модель для расчета значений используемых электрических напряжений, обеспечивающих безотказную работу устройства. Предложены основные элементы конструкции устройства и способ регистрации информационного сигнала. Делается вывод о наличии предпосылок для широкого внедрения подобных устройств для определения направления малых отклонений, основанных на использовании электрического поля.
Представлены спектры пропускания и поглощения электромагнитного излучения для тонких пленок, полученных методом полива из растворов фуллерена в воде и 4-метилфенилгидразона N-изоамилизатина в хлороформе. Описана методика получения, синтез, микроскопия углеродных и органических пленок. Показаны спектры взаимодействия электромагнитного излучения с тонкими пленками в видимом (длины волн 400–920 нм) и ИК (волновые числа 650–4000 см-1) диапазонах. Определены оптимальные толщины активных слоев гетероструктуры на основе водных растворов фуллерена и 4-метилфенилгидразона N-изоамилизатина, что позволило получить максимальное увеличение проводимости.
Трехмерное моделирование диффузии фотогенерированных носителей заряда методом Монте-Карло было использовано для вычисления пространственных профилей фото-ответа фотодиода фотоприёмной матрицы при сканировании этим диодом узкого линейного пятна засветки в пределе максимально большого и предельно малого фототока, отбираемого диодами матрицы из абсорбера. Моделирование проводилось для традиционной матрицы на основе материала кадмий-ртуть-теллур с архитектурой n-на-p и квадратными диодами. Установлены тонкие детали профилей, обусловленные наличием у матрицы структуры; показана зависимость выявленных особенностей от граничных условий диффузионной задачи на n-областях диодов. Дано объяснение формы профилей, естественным образом вытекающее из вычислительной процедуры задачи.
Целью работы является исследование частотных и временных характеристик фотоприемника с помощью прямого и обратного преобразования Фурье. В качестве объекта исследования выбраны спектральные характеристики матричного фотоприемника. Для каналов преобразователя установлено, что частотный спектр состоит из двух элементарных полос в форме кривых Гаусса. Выявлено, что спектры обладают сверхширокополосными свойствами. Импульсная (временная) характеристика спек-тров описывается уравнением в аналитическом виде, которая хорошо согласуется с расчетом. Время нарастания переходной характеристики составляет 1,8–2,9 фс.
На процесс поглощения света заметное влияние оказывает влияние диэлектрическая релаксация заряда. Полученные результаты позволяют получить важную информацию о свойствах фотоприемника в частотной и временной области.
Представлены устройства для прямого измерения потенциала плазмы и плавающего потенциала в газовом разряде в системе реактивного ионно-плазменного травления.
В основе действия разработанных для этого устройств лежит создание локального магнитного поля, позволяющего целенаправленно менять условия амбиполярной диффузии заряженных частиц. Это дает возможность осуществлять выравнивание потенциалов зонда и тела положительного столба плазмы. Проведено сравнение результатов измерения потенциала плазмы предлагаемым и альтернативным методами.
В работе предложена новая методика расчетов интегральных и спектральных коэффициентов излучения протяженных субволновых частиц (ПСЧ), к которым относятся микро- и наноцилиндры, а также параллелепипеды. Проведено сопоставление результатов расчетов по предложенной методике с расчетными и экспериментальными данными, найденными в литературе. Показано, что при уменьшении только поперечных размеров ПСЧ (от величин много больших λmax, до величин много меньших λmax) из спектра излучения, который первоначально описывался законом Планка и содержал моды, как с поляризацией, направленной вдоль оси, так и с поляризацией, направленной перпендикулярно оси, будут постепенно исключаться моды с длинами волн, превышающими λcutoff (λcutoff – длина волны отсечки), имеющие поляризацию перпендикулярную продольной оси ПСЧ, в то время как моды с длинами волн, поляризованные вдоль оси ПСЧ, будут всегда присутствовать в спектре излучения ПСЧ. Когда поперечные размеры ПСЧ станут много меньше λmax, то из спектра излучения этого ПСЧ исчезнут все моды с поляризацией, перпендикулярной оси, и останутся только моды с продольной поляризацией. Это является принципиальным отличием от СЧ, рассмотренных ранее в работах [16, 17], в которых предложены методы расчета таких СЧ, как диски, сферы, кубики. Все предложенные методики расчетов используют формализм разложения потоков излучения на спектрально-пространственные моды.
В работе представлен анализ данных по сечениям упругих и неупругих столкновений электронов с атомами благородных газов. Рассмотрены транспортное (диффузионное) сечение, сечения возбуждения и ионизации. Для выбранных наборов экспериментальных и теоретических данных найдены оптимальные аналитические формулы и для них подобраны аппроксимационные коэффициенты. Полученные полуэмпирические формулы позволяют воспроизводить значения сечений в широком диапазоне энергий столкновения от 0,001 до 10000 эВ с точностью нескольких процентов.
Проведено нульмерное стационарное моделирование СВЧ-разряда в парах воды при атмосферном и пониженном давлениях и постоянной температуре газа. Использовалась модель реактора непрерывного перемешивания. Проведено совместное решение уравнений баланса для нейтральных и заряженных компонент плазмы, уравнения Больцмана для электронов плазмы и уравнения для стационарного распределения СВЧ-поля в объеме, заполненном плазмой. Получены зависимости различных пара-метров разряда (величины СВЧ-поля, концентраций всех компонент) от вложенной удельной мощности WV. Показано, что при пониженном давлении при одной и той же вложенной удельной мощности величина СВЧ-поля в плазме существенно меньше, а концентрация электронов выше, чем при атмосферном давлении. При атмосферном давлении в интервале рассмотренных значений WV плазма воды электроотрицательна, причем квазинейтральность поддерживается отрицательным ионом OH-.
При давлении 30 Торр и вложенной удельной мощности 60–70 кВт/см3 происходит пе-реход от электроотрицательной к электроположительной плазме.
Издательство
- Издательство
- АО "НПО "ОРИОН"
- Регион
- Россия, Москва
- Почтовый адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- Юр. адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- ФИО
- Старцев Вадим Валерьевич (ГЕНЕРАЛЬНЫЙ ДИРЕКТОР)
- E-mail адрес
- orion@orion-ir.ru
- Контактный телефон
- +7 (499) 3749400