Для увеличения плотности элементов микросхем при фотолитографии предложе-но использовать лазерно-плазменные источники при оптическом пробое. Наивыс-шая эффективность генерации излучения в рентгеновском диапазоне на длине вол-ны 6,7 нм достигается при использовании плазмы тугоплавких редкоземельных элементов гадолиния и иттербия в газовой фазе. Рассматриваются основные па-раметры и варианты построения устройства формирования мишени для оптическо-го пробоя на основе аналога – электродугового источника плазмы на парах щелочно-го металла. Проведено исследование требований к устройству: выполнены термо- и газодинамические расчеты и оценки. В качестве нагревателя предложено исполь-зовать нагрев генератором электронного пучка на основе открытого разряда в бу-ферном газе. Выполнены расчеты длины пробега электронов и плотности энерго-выделения в плазме. Приведены оценки энергетической эффективности создания мишени при нагреве устройства пучком электронов.