Архив статей журнала

Структурные и оптические свойства InAs/GaSb сверхрешеток, полученных методом молекулярно-лучевой эпитаксии (2024)
Выпуск: №5 (2024)
Авторы: Ерошенко Григорий Николаевич, Минаев Илья Иванович, Клековкин Алексей Владимирович, Муратов Андрей Викторович, Дубовая Анастасия Романовна, Пручкина Анна Артемовна, Николаев Сергей Николаевич

На подложках GaSb (100) получены короткопериодные сверхрешетки InAs/GaSb с компенсацией упругих напряжений, реализованных за счет внедрения интерфейсных слоев In(As)Sb. Структурное совершенство сверхрешеток и отсутствие пластической релаксации подтверждено с помощью ренгеноструктурного анализа и атомно-силовой микроскопии. На основе измерений спектров отражения показано, что край поглощения сверхрешеток расположен в районе 1000 см-1 мкм при температуре 77 К. Совокупность полученных данных демонстрирует возможность применения сверхрешёток с интерфейсной компенсацией напряжений для создания детекторов дальнего ИК-диапазона.

Сохранить в закладках
Обработка подложек InSb с достижением морфологии поверхности, пригодной для молекулярно-лучевой эпитаксии (2024)
Выпуск: №5 (2024)
Авторы: Трофимов Александр, Молодцова Елена Владимировна, Косякова Анастасия Михайловна, Комаровский Никита Юрьевич, Клековкин Алексей Владимирович, Минаев Илья Иванович, Атрашков Антон Сергеевич

Рассмотрены физико-технологические методы подготовки поверхности монокристаллического антимонида индия (InSb) для молекулярно-лучевых процессов синтеза фоточувствительных слоев. Исследовано влияние основных параметров процессов шлифования, предфинишного полирования абразивной суспензией и финального химико-механического полирования на качество поверхности и основных параметров плоскопараллельности пластин-подложек InSb. В результате на пластинах InSb диаметром 50,8 мм достигнуты морфология поверхности и субнаношероховатый рельеф (Ra £ 0,5 нм), удовлетворяющие требованиям молекулярно-лучевой эпитаксии (МЛЭ). Разработана экспериментальная методика контроля качества и морфологии поверхности, основных параметров плоскопараллельности полупроводниковых подложек InSb в зависимости от изменения основных параметров процесса обработки поверхности

Сохранить в закладках