Ориентационная зависимость процессов травления подложек сапфира (2022)

Проведен анализ процессов травления сапфировых подложек. Рассматриваются особенности использования методов химико-механического, лазерного, ионного, электронного травления сапфировых подложек. Определено, что при химико-механическом и лазерном травлении плоскостей сапфира происходит послойное удаление материала через промежуточные процессы внутрислоевого растрескивания, а скорость травления коррелирует с межплоскостным расстоянием. В случае применения ионного и электронного травления основным механизмом является образование пронизывающих пор, треков, которые ослабляют межатомные связи и приводят к разрушению кристаллической решетки сапфира. При этом скорость травления различных плоскостей кристалла сапфира коррелирует с потенциальной энергией межатомного взаимодействия внутри соответствующей плоскости. Наименьшая интенсивность F+-полосы катодолюминесценции, как и скорость генерации кислородных вакансий наблюдается для С-плоскости сапфира, атомы кислорода в которых формируют плотноупакованный каркас. Наибольшая интенсивность катодолюминесценции наблюдается для А-плоскости сапфира, в которой атомы обладают наименьшей потенциальной энергией.

The analysis of the processes of etching sapphire substrates was carried out. Features of using methods of chemical-mechanical, laser, ion, electronic etching of sapphire substrates are discussed. It was determined that during chemical-mechanical and laser etching of sapphire planes, layer-by-layer removal of material occurs through intermediate processes of intra-layer cracking, and the etching rate correlates with interplane distance. In the case of ion and electron etching, the main mechanism is the romination of permeating pores, tracks that weaken intera-tomic bonds and lead to the destruction of the crystal lattice of sapphire. At the same time, the etching rate of various planes of the sapphire crystal correlates with the potential energy of in-teratomic interaction inside the corresponding plane. The lowest intensity of the F+-band of cathodoluminescence, as well as the rate of oxygen vacancy genesis, is observed for the C-plane of sapphire, the atoms of the oxygen genus in which form a densely packed frame-work. The greatest intensity of cathodoluminescence is observed for the A-plane of sapphire, in which atoms have the least potential energy.

Тип: Статья
Автор (ы): Исмаилов Абубакр (Абакар) Магомедович
Соавтор (ы): Муслимов Арсен Эмирбегович
Ключевые фразы: ОРИЕНТАЦИЯ

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
535.016. Оптические явления, зависящие от свойств поверхностей раздела
539.231. механическим путем, например напылением
Префикс DOI
10.51368/1996-0948-2022-1-51-57
eLIBRARY ID
48038959
Текстовый фрагмент статьи