Статья: Исследование особенностей токов двойной инжекции в pSi-nSi1-xSnx-структурах (2020)

Читать онлайн

Исследованиями механизмов переноса тока в pSi-nSi1-xSnx структур в интервале температур 293–393 К было установлено, что в Si1-xSnx (0  x  0,04) твердом растворе существенную роль в формировании электрических свойств играет рассеяние носителей заряда не только на сложных комплексах, но и на нанообразованиях. И этим доказано, что, эпитаксиальные пленки твердых растворов Si1-xSnx (0  x  0,04), полученные на кремниевых подложках, могут быть перспективными при изготовлении диодов, работающих в режиме двойной инжекции.

Studies of the mechanisms of current transfer in pSi-n(Si)1-x(Sn)x (0  x  0.04) structures in the temperature range 293–393 K showed that the scattering of charge carriers plays an important role in the formation of electrical properties not only on complex complexes, but also on nano formations. And this proves that the epitaxial films of Si1-xSnx (0  x  0.04) obtained on silicon substrates can be promising in the manufacture of diodes operating in the double injection mode. Keywords: the solid solution, the method of liquid phase epitaxial, current-voltage characteristics, sub linear plots, the effect of injection depletion.

Ключевые фразы: твердый раствор, жидкофазная эпитаксия, вольт-амперная характеристи- ка, сублинейный участок, эффект инжекционного обеднения
Автор (ы): Мадаминов Хуршиджон Мухамедович
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.315.592.3. Легированные полупроводники
eLIBRARY ID
44185825
Для цитирования:
МАДАМИНОВ Х. М. ИССЛЕДОВАНИЕ ОСОБЕННОСТЕЙ ТОКОВ ДВОЙНОЙ ИНЖЕКЦИИ В PSI-NSI1-XSNX-СТРУКТУРАХ // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2020. № 5
Текстовый фрагмент статьи