Читать онлайн

Описаны конструкция и способ изготовления высококонтрастных в рентгеновском спектральном поддиапазоне коротких длин волн (  2,55 Å) рентгеношаблонов, являющихся инструментом для формирования резистивных масок толщиной до 250 мкм из негативных и до 1 мм из позитивных резистов. Данные рентгеношаблоны могут быть также использованы в поддиапазоне средних длин волн (810 Å) и в качестве переходных шаблонов при изготовлении LIGA-шаблонов, применяемых в поддиапазоне ультракоротких длин волн (0,53 Å). Способ изготовления базируется на кремниевой планарной технологии. Были изготовлены два вида шаблонов с преимущественно алюминиевой мембраной. Проведенная работа показывает, что, базируясь на данной технологии, можно изготавливать рентгеношаблоны и LIGAшаблоны со слоистыми несущими мембранами, выполненными из слоёв сравнительно легких материалов типа титана, алюминия, кремния и т. п., толщины которых могут варьироваться в зависимости от предназначения шаблона.

The design and method of manufacture x-ray masks, which are high-contrast in the sub-band X-ray spectral range of shorter wavelengths (  2.55 Å), are described. This masks can be a tool for the formation of a resistive mask with a thickness until  250 microns of negative resist and  1 mm of positive resist. Such X-ray masks also can be used in the sub-band of medium wavelengths (810 Å) and as transition masks in the manufacture of LIGA-masks, which used in the sub-band of ultrashort wavelengths (0.53 Å). The manufacturing method is based on silicon planar technology. Two types of masks were made with mainly aluminum membrane. The work shows that, based on silicon planar technology, it is possible to produce X-ray masks with layered (titanium, aluminum and silicon layers, the thickness of which can vary in a fairly wide range) holding membranes, used in both deep and “soft” x-ray lithographs.

Ключевые фразы: рентгенолитографические маски, рентгеношаблоны, liga-шаблоны, LIGA-технология, мягкая рентгеновская литография
Автор (ы): Генцелев Александр Николаевич, Гольденберг Борис Григорьевич, Лемзяков Алексей Георгиевич
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
539.1.043. Физические действия (тепловые, оптические и т.п.)
eLIBRARY ID
44185830
Для цитирования:
ГЕНЦЕЛЕВ А. Н., ГОЛЬДЕНБЕРГ Б. Г., ЛЕМЗЯКОВ А. Г. РЕНТГЕНОШАБЛОНЫ С МНОГОСЛОЙНОЙ НЕСУЩЕЙ МЕМБРАНОЙ // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2020. № 5
Текстовый фрагмент статьи