Усовершенствованная архитектура фотодиода на основе CdHgTe, предназначенного для регистрации слабого инфракрасного излучения (2021)

Проанализированы темновые токи в усовершенствованной архитектуре матрицы фотодиодов на основе тройного соединения CdHgTe, предназначенной для регистрации слабого инфракрасного излучения. Формирование областей противоположной проводимости в широкозонном слое уменьшает вклад токов генерации-рекомбинации ШРХ, что увеличивает влияние Оже-механизмов, определяющих ток диффузии. Используя области различного состава с переходными подслоями с уменьшенной на границах раздела скоростью поверхностной рекомбинации, можно снизить вклад поверхностных механизмов в суммарный темновой ток фотодиода. За счет правильного выбора состава области поглощения и верхнего широкозонного слоя в усовершенствованной архитектуре ФЧЭ можно добиться уменьшения темнового тока, что позволяет повысить фотоэлектрические параметры.

The dark currents of CdHgTe photodiodes based on the advanced architecture, which is used in threshold FPA for detection of weak infrared radiation, have been analyzed. The opposite conductivity regions are formed of in wide-gap layers, that reduces the contribution of the SRH generation-recombination currents of to the total dark current. By using various compositions layers with transition sublayers reducing surface recombination at the interfaces, one can re-duce the surface mechanism contribution to the total dark current of the photodiode. Finally, due to the correct choice of the absorption layer composition and wide-gap layer parameters, dark current in the space charge region is much lower than а diffusion current causing by Auger mechanism in the absorption region for a given cutoff wavelength.

Тип: Статья
Автор (ы): Яковлева Наталья

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.383.4. Фотоэлементы с внутренним фотоэффектом. Фоторезисторы
621.383.5. Фотоприемники с запирающим слоем
eLIBRARY ID
45648262
Текстовый фрагмент статьи