Разложение СО2 в барьерном разряде атмосферного давления (аналитический обзор) (2022)
Приведен аналитический обзор результатов исследований разложения углекислого газа в барьерном разряде атмосферного давления. Разложение углекислого газа CO2 в барьерном разряде происходит неравновесных условиях в результате диссоциативного возбуждения молекулы электронным ударом. Установлено, что степень разложения углекислого газа и энергетическая эффективность устройства не превышают 70 % и 23 %, соответственно. Эти параметры зависят от геометрии разряда, от вложенной в разряд мощности, расхода газа, зазора между электродами. Одним из перспективных путей увеличения эффективности барьерного разряда является наполнение зазора между электродами гранулами из различных материалов, включая катализаторы.
An analytical review of the results of studies of the decomposition of carbon dioxide in a barrier discharge at atmospheric pressure is presented. The decomposition of carbon dioxide CO2 in a barrier discharge occurs under nonequilibrium conditions as a result of dissociative excitation of the molecule by electron impact. It has been established that the degree of de-composition of carbon dioxide α and the energy efficiency of the device η do not exceed 70 % and 23 %, respectively. These parameters depend on the geometry of the discharge, on the power deposited in the discharge, on the gas flow rate, and on the gap between the electrodes. One of the promising ways to increase the barrier discharge efficiency is to fill the gap between the electrodes with granules of various materials, including catalysts.
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
- Префикс DOI
- 10.51368/2307-4469-2022-10-2-109-131
- eLIBRARY ID
- 48451158
Таким образом, полученные в экспериментах с БР максимальные значения степени разложении СО2 и энергетической эффективности разрядного устройства степень разложения углекислого газа и энергетическая эффективность устройства не превышают 70 % и 23 %, соответственно. Заметим, что максимальные значения параметров не достигаются одновременно. Экспериментальные и теоретические исследования механизма разложения углекислого газа показывают, что распад молекулы отличается от термического: разложение углекислого газа CO2 происходит в неравновесных условиях в результате диссоциативного возбуждения молекулы углекислого газа электронным ударом. Вкладом реакций с участием колебательно-возбужденных молекул СО2 в скорость разложения СО2 можно пренебречь. Для улучшения характеристик разрядного устройства на основе БР необходимо совершенствовать конструкции разрядного устройства: поддерживать темпе-ратуру стенки реактора как можно более низ-кой, обеспечивать высокие значения времени пребывания газа в разрядном объёме и заряда, обусловленного током проводимости и т. д.
В настоящее время, перспективным направлением для повышения и в БР, как и в других типах разряда, является применение плазменно-каталитических систем. При этом нужно отметить, что во многих случаях объем БР заполняется гранулами из материалов, которые в общепринятом смысле не являются катализаторами. Изменение эффективности устройств на основе БР в этом случае достигается изменением их электродинамических характеристик и не связано с катализом, как таковым. Заметим, что и в случае применения наполнителей с катализатором (как правило, металлы) тоже изменяются электродинамические характеристики разрядного устройства, и трудно разделить это влияние от чисто каталитического эффекта в разложении углекислого газа. Эта проблема требует дальнейшего исследования.
Список литературы
- B. M. Smirnov, Sov. Phys. Usp. 126, 527 (1978).
- C. S. Song, Catal. Today 115, 2 (2006).
- G. Centi and S. Perathoner, Catal. Today 148, 191 (2009).
- I. Omae, Coord. Chem. Rev. 256, 1384 (2012).
- I. Dimitriou, P. Garcia-Gutierrez, R. H. Elder, R. M. Cuellar-Franca, A. Azapagic, and R. W. K. Allen, Energy Environ. Sci. 8, 1775 (2015).
- E. V. Kondratenko, G. Mul, J. Baltrusaitis, G. O. Larrazabal, and J. Perez-Ramirez, Energy Environ. Sci. 6, 3112 (2013).
- M. Mikkelsen, M. Jorgensen, and F. C. Krebs, Ener-gy Environ. Sci. 3, 43 (2010).
- P. Lahijani, Z. A. Zainal, M. Mohammadi, and A. R. Mohamed, Renew. Sustain. Energy Rev. 41, 615 (2015).
- V. D. Rusanov and A. A. Fridman, Physics of chemically active plasma. (Nauka, Moscow, 1984) [in Russian].
- A. Fridman, Plasma chemistry. (Cambridge Uni-versity Press, New York, 2008).
- R. Snoeckx and A. Bogaerts, Chemical Society Reviews 46, 5805 (2017).
- A. George, B. Shen, M. Craven, Y. Wang, D. Kang, C. Wu, and X. Tu, Renewable and Sustainable Ener-gy Reviews 135, 109702 (2021).
- Yu. A. Lebedev and V. A. Shakhatov, Journal of Applied Chemistry 95, 39 (2022).
- Yu. P. Andreev, Soviet Journal of Physical Chem-istry 38, 794 (1964).
- J. Wang, G. Xia, A. Huang, S. L. Suib, Y. Hayashi, and H. Matsumoto, J. Catal. 185, 152 (1999).
- R. X. Li, Y. Yamaguchi, Y. Shu, T. Qing, and T. Sato, Solid State Ionics 172, 235 (2004).
- R. X. Li, Q. Tang, S. Yin, and T. Sato, Fuel Process. Technol. 87, 617 (2006).
- R. Li, Q. Tang, S. Yin, and T. Sato, Appl. Phys. Lett. 90, 131502 (2007).
- R. J. Leiweke and B. N. Ganguly, Appl. Phys. Lett. 90, 241 (2007).
- S. Paulussen, B. Verheyde, X. Tu, C. D. Bie, T. Martens, D. Petrovic, A. Bogaerts, and B. Sels, Plasma Sources Sci Technol. 19, 034015 (2010).
- Y. Tagawa, S. Mori, M. Suzuki, I. Yamanaka, T. Obara, J. Ryu, and Y. Kato, Kagaku Kogaku Ronbunshu 37, 114 (2011).
- Q. Yu, M. Kong, T. Liu, J. Fei, and X. Zheng, Plasma Chem. Plasma Process. 32, 153 (2012).
- S. Wang, Y. Zhang, X. Liu, and X. Wang, Plasma Chem. Plasma Process. 32, 979 (2012).
- R. Aerts, T. Martens, and A. Bogaerts, J. Phys. Chem. C 116, 23257 (2012).
- A. Michelmore, D. A. Steele, J. D. Whittle, J. W. Bradley, and R. D. Short, RSC Adv. 3, 13540 (2013).
- F. Brehmer, S. Welzel, R. M. C. M. Van De Sanden, and R. Engeln, J. Appl. Phys. 116, 123303 (2014).
- M. A. Lindon and E. E. Scime, Front. Phys. 2, 1 (2014).
- D. Mei, X. Zhu, Y.-L. He, J. D. Yan, and X. Tu, Plasma Sources Sci. Technol. 24, 15011 (2014).
- T. Kozak and A. Bogaerts, Plasma Sources Sci. Technol. 23, 045004 (2014).
- R. Aerts, W. Somers, A. Bogaerts, ChemSus-Chem. 8. 702 (2015).
- M. Ramakers, I. Michielsen, R. Aerts, V. Meynen, and A. Bogaerts, Plasma Process Polym. 12, 755 (2015).
- X. Duan, Z. Hu, Y. Li, and B. Wang, AlChE 61, 898 (2015).
- K. Van Laer and A. Bogaerts, Energy Technol. 3, 1038 (2015).
- X. Duan, Y. Li, W. Ge, and B. Wang, Greenhouse Gases: Sci. Technol. 5, 131 (2015).
- R. Snoeckx, Y. X. Zeng, X. Tu, and A. Bogaerts, RSC Adv. 5, 29799 (2015).
- D. H. Mei, X. B. Zhu, Y. L. He, J. D. Yan, and X. Tu, Plasma Sources Sci. Technol. 24, 015011 (2015).
- R. Snoeckx, S. Heijkers, K. V. Wesenbeeck, S. Lenaerts, and A. Bogaerts, Energy Environ. Sci. 9, 999 (2016).
- M. Schiorlin, R. Klink, and R. Brandenburg, Eur. Phys. J.: Appl. Phys. 75, 1 (2016).
- I. Belov, S. Paulussen, and A. Bogaerts, Plasma Sources Sci. Technol. 25, 15023 (2016).
- T. Butterworth, R. Elder, and R. Allen, Chem. Eng. J. 293, 55 (2016).
- S. Ponduri, M. M. Becker, S. Welzel, M. C. M. Van De Sanden, D. Loffhagen, and R. Engeln, J. Appl. Phys. 119, 093301 (2016).
- A. Bogaerts, C. De Bie, R. Snoeckx, and T. Kozak, Plasma Processes Polym. 14, e201600070 (2016).
- M. Grofulovic, L. L. Alves, and V. Guerra, J. Phys. D: Appl. Phys. 49, 395207 (2016).
- A. Bogaerts, W. Wang, A. Berthelot, and V. Guerra, Plasma Sources Sci. Technol. 25, 55016 (2016).
- D. Mei, X. Zhu, C. Wu, B. Ashford, P. T. Williams, and X. Tu, Appl. Catal. B Environ. 182, 525 (2016).
- A. Ozkan, T. Dufour, T. Silva, N. Britun, R. Snyders, A. Bogaerts, et al., Plasma Sources Sci. Tech-nol. 25, 025013 (2016).
- A. Ozkan, A. Bogaerts, and F. Reniers, J. Phys. D: Appl. Phys. 50, 84004 (2017).
- I. Michielsen, Y. Uytdenhouwen, J. Pype, B. Michielsen, J. Mertens, F. Reniers, V. Meynen, and A. Bogaerts, Chem. Eng. J. 326, 477 (2017).
- A. Bogaerts, A. Berthelot, S. Heijkers, St. Kolev, R. Snoeckx, S. Sun, G. Trenchev, K. Van Laer, and W. Wang, Plasma Sources Sci. Technol. 26, 063001 (2017).
- P. Koelman, S. Heijkers, S. T. Mousavi, W. Graef, D. Mihailova, T. Kozak, A. Bogaerts, and J. van Dijk, Plasma Processes Polym. 14, 1600155 (2017).
- D. Mei and X. Tu, J. of CO2 Utilization 19, 68 (2017).
- D. Mei and X. Tu, Chem. Phys. Chem. 18, 3253 (2017).
- K. Zhang, G. R. Zhang, X. T. Liu, A. N. Phan, and K. Luo, Ind. Eng. Chem. Res. 56, 3204 (2017).
- S. J. Xu, J. C. Whitehead, and P. A. Martin, Chem. Eng. J. 327, 764 (2017).
- P. Chen, J. Shen, T. Ran, T. Yang, and Y. Yin, Plasma Sci. Technol. 19, 125505 (2017).
- N. Lu, D. Sun, C. Zhang, N. Jiang, K. Shang, X. Bao, et al., J. Phys. D Appl. Phys. 51, 094001 (2018).
- S. J. Xu, P. Khalaf, P. A. Martin, and J. C. White-head, Plasma Sources Sci. Technol. 27, 075009 (2018).
- B. Ashford, Y. Wang, C.-K. Poh, L. Chen, and X. Tu, Appl. Catal. B Environ 276, 119110 (2020).
- K. Zhang and A. P. Harvey, Chemical Engineering Journal 405, 126625 (2021).
- V. G. Samoilovich, V. I. Gibalov, and K. V. Kozlov, Physical chemistry of barrier discharge. (Publishing House of Moscow State University, Moscow, 1989).
- B. Eliasson and U. Kogelschatz, Plasmas IEEE Trans. Plasma Sci. 19, 309 (1991).
- B. Eliasson, W. Egli, and U. Kogelschatz, Pure Appl. Chem. 66, U1766 (1994).
- U. Kogelschatz, Plasma Chem. Plasma Process. 23, 1 (2003).
- J. J. Lowke, A. V. Phelps, and B. W. Irwin, J. Appl. Phys. 44, 4664 (1973).
- T. G. Beuthe and J. S. Chang, Japan. J. Appl. Phys. 36, 4997 (1997).
- Yu. A. Lebedev and V. A. Shakhatov, High Ener-gy Chemistry 55, 419 (2021).
- Yu. A. Lebedev and V. A. Shakhatov, Advances of Applied Physics 9, 365 (2021) [in Russian].
- H. L. Chen, H. M. Lee, S. H. Chen, and M. B. Chang, Ind. Eng. Chem. Res. 47, 2122 (2008).
- G. J. M. Haelaar and L. C. Pitchford, Plasma Sources Sci. Technol. 14, 722 (2005).
- X. Tu, H. J. Gallon, M. V. Twigg, P. A. Gorry, and J. C. Whitehead, J. Phys. D Appl. Phys. 44, 274007 (2011).
- S. Y. Liu, D. H. Mei, Z. Shen, and X. Tu, J. Phys. Chem. C 118, 10686 (2014).
- A. Meiners, M. Leck, and B. Abel, Rev. Sci. Instrum. 81, 113507 (2010).
- B. W. Wang, W. J. Yan, W. J. Ge, and X. F. Duan, J. Energy Chem. 22, 876 (2013).
- A. Indarto, D. R. Yang, J. W. Choi, H. Lee, and H. K. Song, J. Hazard. Mater. 146, 309 (2007).
- A. Ozkan, T. Dufour, A. Bogaerts, and F. Reniers, Plasma Sources Sci. Technol. 25, 045016 (2016).
- D. H. Mei, Y.-L. He, S. Y. Liu, J. D. Yan, and X. Tu, Plasma Process. Polym. 13, 544 (2016).
- W. Xu, M. W. Li, G. H. Xu, and Y. L. Tian, Jpn. J. Appl. Phys. 43, 8310 (2004).
- S. Li, J-P. Lim, J. G. Kang, and H. S. Uhm, Phys. Plasmas 13, 093503 (2006).
- X. Tu, H. J. Gallon, and J. C. Whitehead, IEEE Trans Plasma Sci. 39, 2900-1 (2011).
- M. S. Moss, K. Yanallah, R. W. K. Allen, and F. Pontiga, Plasma Sources Sci. Technol. 26, 035009 (2017).
- T. Takuma, IEEE Trans. Electr. Insul. 26, 500 (1991).
- E. C. Neyts, K. Ostrikov, M. K. Sunkara, and A. Bogaerts, Chem. Rev. 115, 13408 (2015).
- J. Van Durme, J. Dewulf, C. Leys, and H. Van Langenhove, Appl. Catal. B Environ. 78, 324 (2008).
- H. L. Chen, H. M. Lee, S. H. Chen, M. B. Chang, S. J. Yu, and S. N. Li, Environ. Sci. Technol. 43, 2216 (2009).
- H. L. Chen, H. M. Lee, S. H. Chen, Y. Chao, and M. B. Chang, Appl. Catal. B Environ. 85, 1 (2008).
- J. C. Whitehead, Pure Appl. Chem. 82, 1329 (2010).
- Y. Zeng, X. Zhu, D. Mei, B. Ashford, and X. Tu, Catal. Today 256, 80 (2015).
- H. K. Song, J.-W. Choi, S. H. Yue, H. Lee, B.-K. Na, and H. K. Songu, Catal. Today 89, 27 (2004).
- J. Sentek, K. Krawczyk, M. Mlotek, M. Kalczewska, T. Kroker, T. Kolb, A. Schenk, K.-H. Gericke, and K. Schmidt-Szaiowski, Appl. Catal. B Environ. 94, 19 (2010).
- X. Tu, H. J. Gallon, M. V. Twigg, P. A. Gorry, and J. C. Whitehead, J. Phys. D Appl. Phys. 44, 274007 (2011).
- M. Kraus, W. Egli, K. Haffner, B. Eliasson, U. Ko-gelschatz, and A. Wokaun, Phys. Chem. Chem. Phys. 4, 668 (2002).
- A. Bogaerts, T. Kozak, K. van Laer, and R. Snoeckx, Faraday Discuss. 217, (2015).
- K. Van Laer and A. Bogaerts, Plasma Sources Sci. Technol. 26, 085007 (2017).
- K. Van Laer and A. Bogaerts, Plasma Process. Polym. 14, e1600129 (2017).
- J. C. Whitehead, J. Phys. D. Appl. Phys. 49, 243001 (2016).
- Y. R. Zhang, K. Van Laer, E. C. Neyts, and A. Bogaerts, Appl. Catal. B Environ. 185, 56 (2016).
- Y. Zhang, H.-Y. Wang, Y.-R. Zhang, and A. Bogaerts, Plasma Sources Sci. Technol. 26, 054002 (2017).
- K. Van Laer and A. Bogaerts, Plasma Sources Sci. Technol. 25, 15002 (2016).
- H. J. Gallon, X. Tu, and J. C. Whitehead, Plasma Process. Polym. 9, 90 (2012).
- B. M. Smirnov, Sov. Phys. Usp. 126, 527 (1978).
- C. S. Song, Catal. Today 115, 2 (2006).
- G. Centi and S. Perathoner, Catal. Today 148, 191 (2009).
- I. Omae, Coord. Chem. Rev. 256, 1384 (2012).
- I. Dimitriou, P. Garcia-Gutierrez, R. H. Elder, R. M. Cuellar-Franca, A. Azapagic, and R. W. K. Allen, Energy Environ. Sci. 8, 1775 (2015).
- E. V. Kondratenko, G. Mul, J. Baltrusaitis, G. O. Larrazabal, and J. Perez-Ramirez, Energy Environ. Sci. 6, 3112 (2013).
- M. Mikkelsen, M. Jorgensen, and F. C. Krebs, Energy Environ. Sci. 3, 43 (2010).
- P. Lahijani, Z. A. Zainal, M. Mohammadi, and A. R. Mohamed, Renew. Sustain. Energy Rev. 41, 615 (2015).
- V. D. Rusanov and A. A. Fridman, Physics of chemically active plasma. (Nauka, Moscow, 1984) [in Russian].
- A. Fridman, Plasma chemistry. (Cambridge University Press, New York, 2008).
- R. Snoeckx and A. Bogaerts, Chemical Society Reviews 46, 5805 (2017).
- A. George, B. Shen, M. Craven, Y. Wang, D. Kang, C. Wu, and X. Tu, Renewable and Sustainable Ener-gy Reviews 135, 109702 (2021).
- Yu. A. Lebedev and V. A. Shakhatov, Journal of Applied Chemistry 95, 39 (2022).
- Yu. P. Andreev, Soviet Journal of Physical Chem-istry 38, 794 (1964).
- J. Wang, G. Xia, A. Huang, S. L. Suib, Y. Hayashi, and H. Matsumoto, J. Catal. 185, 152 (1999).
- R. X. Li, Y. Yamaguchi, Y. Shu, T. Qing, and T. Sato, Solid State Ionics 172, 235 (2004).
- R. X. Li, Q. Tang, S. Yin, and T. Sato, Fuel Process. Technol. 87, 617 (2006).
- R. Li, Q. Tang, S. Yin, and T. Sato, Appl. Phys. Lett. 90, 131502 (2007).
- R. J. Leiweke and B. N. Ganguly, Appl. Phys. Lett. 90, 241 (2007).
- S. Paulussen, B. Verheyde, X. Tu, C. D. Bie, T. Martens, D. Petrovic, A. Bogaerts, and B. Sels, Plasma Sources Sci Technol. 19, 034015 (2010).
- Y. Tagawa, S. Mori, M. Suzuki, I. Yamanaka, T. Obara, J. Ryu, and Y. Kato, Kagaku Kogaku Ronbunshu 37, 114 (2011).
- Q. Yu, M. Kong, T. Liu, J. Fei, and X. Zheng, Plasma Chem. Plasma Process. 32, 153 (2012).
- S. Wang, Y. Zhang, X. Liu, and X. Wang, Plasma Chem. Plasma Process. 32, 979 (2012).
- R. Aerts, T. Martens, and A. Bogaerts, J. Phys. Chem. C 116, 23257 (2012).
- A. Michelmore, D. A. Steele, J. D. Whittle, J. W. Bradley, and R. D. Short, RSC Adv. 3, 13540 (2013).
- F. Brehmer, S. Welzel, R. M. C. M. Van De Sanden, and R. Engeln, J. Appl. Phys. 116, 123303 (2014).
- M. A. Lindon and E. E. Scime, Front. Phys. 2, 1 (2014).
- D. Mei, X. Zhu, Y.-L. He, J. D. Yan, and X. Tu, Plasma Sources Sci. Technol. 24, 15011 (2014).
- T. Kozak and A. Bogaerts, Plasma Sources Sci. Technol. 23, 045004 (2014).
- R. Aerts, W. Somers, A. Bogaerts, ChemSus-Chem. 8. 702 (2015).
- M. Ramakers, I. Michielsen, R. Aerts, V. Meynen, and A. Bogaerts, Plasma Process Polym. 12, 755 (2015).
- X. Duan, Z. Hu, Y. Li, and B. Wang, AlChE 61, 898 (2015).
- K. Van Laer and A. Bogaerts, Energy Technol. 3, 1038 (2015).
- X. Duan, Y. Li, W. Ge, and B. Wang, Greenhouse Gases: Sci. Technol. 5, 131 (2015).
- R. Snoeckx, Y. X. Zeng, X. Tu, and A. Bogaerts, RSC Adv. 5, 29799 (2015).
- D. H. Mei, X. B. Zhu, Y. L. He, J. D. Yan, and X. Tu, Plasma Sources Sci. Technol. 24, 015011 (2015).
- R. Snoeckx, S. Heijkers, K. V. Wesenbeeck, S. Lenaerts, and A. Bogaerts, Energy Environ. Sci. 9, 999 (2016).
- M. Schiorlin, R. Klink, and R. Brandenburg, Eur. Phys. J.: Appl. Phys. 75, 1 (2016).
- I. Belov, S. Paulussen, and A. Bogaerts, Plasma Sources Sci. Technol. 25, 15023 (2016).
- T. Butterworth, R. Elder, and R. Allen, Chem. Eng. J. 293, 55 (2016).
- S. Ponduri, M. M. Becker, S. Welzel, M. C. M. Van De Sanden, D. Loffhagen, and R. Engeln, J. Appl. Phys. 119, 093301 (2016).
- A. Bogaerts, C. De Bie, R. Snoeckx, and T. Kozak, Plasma Processes Polym. 14, e201600070 (2016).
- M. Grofulovic, L. L. Alves, and V. Guerra, J. Phys. D: Appl. Phys. 49, 395207 (2016).
- A. Bogaerts, W. Wang, A. Berthelot, and V. Guer-ra, Plasma Sources Sci. Technol. 25, 55016 (2016).
- D. Mei, X. Zhu, C. Wu, B. Ashford, P. T. Williams, and X. Tu, Appl. Catal. B Environ. 182, 525 (2016).
- A. Ozkan, T. Dufour, T. Silva, N. Britun, R. Snyders, A. Bogaerts, et al., Plasma Sources Sci. Technol. 25, 025013 (2016).
- A. Ozkan, A. Bogaerts, and F. Reniers, J. Phys. D: Appl. Phys. 50, 84004 (2017).
- I. Michielsen, Y. Uytdenhouwen, J. Pype, B. Michielsen, J. Mertens, F. Reniers, V. Meynen, and A. Bogaerts, Chem. Eng. J. 326, 477 (2017).
- A. Bogaerts, A. Berthelot, S. Heijkers, St. Kolev, R. Snoeckx, S. Sun, G. Trenchev, K. Van Laer, and W. Wang, Plasma Sources Sci. Technol. 26, 063001 (2017).
- P. Koelman, S. Heijkers, S. T. Mousavi, W. Graef, D. Mihailova, T. Kozak, A. Bogaerts, and J. van Dijk, Plasma Processes Polym. 14, 1600155 (2017).
- D. Mei and X. Tu, J. of CO2 Utilization 19, 68 (2017).
- D. Mei and X. Tu, Chem. Phys. Chem. 18, 3253 (2017).
- K. Zhang, G. R. Zhang, X. T. Liu, A. N. Phan, and K. Luo, Ind. Eng. Chem. Res. 56, 3204 (2017).
- S. J. Xu, J. C. Whitehead, and P. A. Martin, Chem. Eng. J. 327, 764 (2017).
- P. Chen, J. Shen, T. Ran, T. Yang, and Y. Yin, Plasma Sci. Technol. 19, 125505 (2017).
- N. Lu, D. Sun, C. Zhang, N. Jiang, K. Shang, X. Bao, et al., J. Phys. D Appl. Phys. 51, 094001 (2018).
- S. J. Xu, P. Khalaf, P. A. Martin, and J. C. White-head, Plasma Sources Sci. Technol. 27, 075009 (2018).
- B. Ashford, Y. Wang, C.-K. Poh, L. Chen, and X. Tu, Appl. Catal. B Environ 276, 119110 (2020).
- K. Zhang and A. P. Harvey, Chemical Engineering Journal 405, 126625 (2021).
- V. G. Samoilovich, V. I. Gibalov, and K. V. Kozlov, Physical chemistry of barrier discharge. (Publishing House of Moscow State University, Moscow, 1989).
- B. Eliasson and U. Kogelschatz, Plasmas IEEE Trans. Plasma Sci. 19, 309 (1991).
- B. Eliasson, W. Egli, and U. Kogelschatz, Pure Appl. Chem. 66, U1766 (1994).
- U. Kogelschatz, Plasma Chem. Plasma Process. 23, 1 (2003).
- J. J. Lowke, A. V. Phelps, and B. W. Irwin, J. Appl. Phys. 44, 4664 (1973).
- T. G. Beuthe and J. S. Chang, Japan. J. Appl. Phys. 36, 4997 (1997).
- Yu. A. Lebedev and V. A. Shakhatov, High Ener-gy Chemistry 55, 419 (2021).
- Yu. A. Lebedev and V. A. Shakhatov, Advances of Applied Physics 9, 365 (2021) [in Russian].
- H. L. Chen, H. M. Lee, S. H. Chen, and M. B. Chang, Ind. Eng. Chem. Res. 47, 2122 (2008).
- G. J. M. Haelaar and L. C. Pitchford, Plasma Sources Sci. Technol. 14, 722 (2005).
- X. Tu, H. J. Gallon, M. V. Twigg, P. A. Gorry, and J. C. Whitehead, J. Phys. D Appl. Phys. 44, 274007 (2011).
- S. Y. Liu, D. H. Mei, Z. Shen, and X. Tu, J. Phys. Chem. C 118, 10686 (2014).
- A. Meiners, M. Leck, and B. Abel, Rev. Sci. In-strum. 81, 113507 (2010).
- B. W. Wang, W. J. Yan, W. J. Ge, and X. F. Duan, J. Energy Chem. 22, 876 (2013).
- A. Indarto, D. R. Yang, J. W. Choi, H. Lee, and H. K. Song, J. Hazard. Mater. 146, 309 (2007).
- A. Ozkan, T. Dufour, A. Bogaerts, and F. Reniers, Plasma Sources Sci. Technol. 25, 045016 (2016).
- D. H. Mei, Y.-L. He, S. Y. Liu, J. D. Yan, and X. Tu, Plasma Process. Polym. 13, 544 (2016).
- W. Xu, M. W. Li, G. H. Xu, and Y. L. Tian, Jpn. J. Appl. Phys. 43, 8310 (2004).
- S. Li, J-P. Lim, J. G. Kang, and H. S. Uhm, Phys. Plasmas 13, 093503 (2006).
- X. Tu, H. J. Gallon, and J. C. Whitehead, IEEE Trans Plasma Sci. 39, 2900-1 (2011).
- M. S. Moss, K. Yanallah, R. W. K. Allen, and F. Pontiga, Plasma Sources Sci. Technol. 26, 035009 (2017).
- T. Takuma, IEEE Trans. Electr. Insul. 26, 500 (1991).
- E. C. Neyts, K. Ostrikov, M. K. Sunkara, and A. Bogaerts, Chem. Rev. 115, 13408 (2015).
- J. Van Durme, J. Dewulf, C. Leys, and H. Van Langenhove, Appl. Catal. B Environ. 78, 324 (2008).
- H. L. Chen, H. M. Lee, S. H. Chen, M. B. Chang, S. J. Yu, and S. N. Li, Environ. Sci. Technol. 43, 2216 (2009).
- H. L. Chen, H. M. Lee, S. H. Chen, Y. Chao, and M. B. Chang, Appl. Catal. B Environ. 85, 1 (2008).
- J. C. Whitehead, Pure Appl. Chem. 82, 1329 (2010).
- Y. Zeng, X. Zhu, D. Mei, B. Ashford, and X. Tu, Catal. Today 256, 80 (2015).
- H. K. Song, J.-W. Choi, S. H. Yue, H. Lee, B.-K. Na, and H. K. Songu, Catal. Today 89, 27 (2004).
- J. Sentek, K. Krawczyk, M. Mlotek, M. Kalczewska, T. Kroker, T. Kolb, A. Schenk, K.-H. Gericke, and K. Schmidt-Szaiowski, Appl. Catal. B Environ. 94, 19 (2010).
- X. Tu, H. J. Gallon, M. V. Twigg, P. A. Gorry, and J. C. Whitehead, J. Phys. D Appl. Phys. 44, 274007 (2011).
- M. Kraus, W. Egli, K. Haffner, B. Eliasson, U. Ko-gelschatz, and A. Wokaun, Phys. Chem. Chem. Phys. 4, 668 (2002).
- A. Bogaerts, T. Kozak, K. van Laer, and R. Snoeckx, Faraday Discuss. 217, (2015).
- K. Van Laer and A. Bogaerts, Plasma Sources Sci. Technol. 26, 085007 (2017).
- K. Van Laer and A. Bogaerts, Plasma Process. Polym. 14, e1600129 (2017).
- J. C. Whitehead, J. Phys. D. Appl. Phys. 49, 243001 (2016).
- Y. R. Zhang, K. Van Laer, E. C. Neyts, and A. Bogaerts, Appl. Catal. B Environ. 185, 56 (2016).
- Y. Zhang, H.-Y. Wang, Y.-R. Zhang, and A. Bogaerts, Plasma Sources Sci. Technol. 26, 054002 (2017).
- K. Van Laer and A. Bogaerts, Plasma Sources Sci. Technol. 25, 15002 (2016).
- H. J. Gallon, X. Tu, and J. C. Whitehead, Plasma Process. Polym. 9, 90 (2012).
Выпуск
С О Д Е Р Ж А Н И Е
ФИЗИКА ПЛАЗМЫ И ПЛАЗМЕННЫЕ МЕТОДЫ
Лебедев Ю. А., Шахатов В. А.
Разложение СО2 в барьерном разряде атмосферного давления (аналитический обзор) 109
Васильков Д. Г., Терещенко М. А.
О переходных процессах, приводящих к стабилизации плазменного шнура в стеллараторе Л-2М 132
ФОТОЭЛЕКТРОНИКА
Попов В. С., Пономаренко В. П., Попов С. В.
Фото- и наноэлектроника на основе двумерных 2D-материалов (обзор)
(Часть III. Фотосенсоры на основе графена, графеноподобных и родственных моноатомных 2D-наноматериалов) 144
Болтарь К. О., Бурлаков И. Д., Яковлева Н. И., Власов П. В., Лазарев П. С.
Задачи импортозамещения и создание современных фотоприемных модулей 170
Мирофянченко А. Е., Мирофянченко Е. В., Лаврентьев Н. А., Малыгин В. А., Ванюшин В. О., Попов В. С.
Диэлектрические покрытия на основе Al2O3 и SiOx для фотодиодных матриц из антимонида индия 183
ФИЗИЧЕСКОЕ МАТЕРИАЛОВЕДЕНИЕ
Шабловский О. Н., Кроль Д. Г.
Динамика неустойчивости волновых возмущений и боковое ветвление дендрита в переохлажденном расплаве 189
ФИЗИЧЕСКАЯ АППАРАТУРА И ЕЁ ЭЛЕМЕНТЫ
Кульчицкий Н. А., Наумов А. В., Старцев В. В., Демьяненко М. А.
Неохлаждаемые матричные терагерцовые микроболометрические приемники 203
C O N T E N T S
PLASMA PHYSICS AND PLASMA METHODS
Yu. A. Lebedev and V. A. Shakhatov
Decomposition of CO2 in atmospheric pressure barrier discharge (analytical review) 109
D. G. Vasilkov and M. A. Tereshchenko
On transition processes leading to stabilization of plasma cord in the L-2M stellarator 132
PHOTOELECTRONICS
V. S. Popov, V. P. Ponomarenko, and S. V. Popov
Photo- and nanoelectronics based on two-dimensional 2D-materials (a review)
(Part III. Photosensors based on graphene, graphene-like and related monoatomic 2D nanomaterials) 144
K. O. Boltar, I. D. Burlakov, N. I. Iakovleva, P. V. Vlasov, and P. S. Lazarev
Import replacement and creation of modern photodetector modules 170
A. E. Mirofyanchenko, E. V. Mirofianchenko, N. A. Lavrentiev, V. A. Maygin, V. O. Va-
nyushin, and V. S. Popov
Alumina and silicone oxide dielectric films for focal plane arrays based on InSb 183
PHYSICAL SCIENCE OF MATERIALS
O. N. Shablovsky and D. G. Kroll
Dynamics of instable wave perturbations and lateral dendrite branсhing in an undercooled melt 189
PHYSICAL EQUIPMENT AND ITS ELEMENTS
N. A. Kulchitsky, A. V. Naumov, V. V. Startsev, and M. A. Dem’yanenko
Uncooled matrix terahertz microbolometric detectors 203
Другие статьи выпуска
Продолжается обсуждение вопросов, связанных с развитием детекторов излучения терагерцового диапазона. Рассматриваются методы повышения коэффициента поглощения терагерцового излучения, применяемые при разработке и создании матричных неохлаждаемых микроболометрических приемников ТГц-излучения. Практически полное поглощение ТГц-излучения достигается при использовании:
- антенн, нагруженных на резистивную нагрузку, 2) тонких металлических поглотителей, 3) метаматериалов или частотно-селективных поверхностей, 4) золотой черни и 5) углеродных материалов, в первую очередь, вертикально ориентированных углеродных нанотрубок. В случае антенн и тонких металлических поглотителей, при помощи толстого слоя диэлектрика дополнительно повышается эффективная толщина зазора между отражателем и мембраной болометра, и применяются дополнительные резонаторы, образованные зазором между болометром и входным окном. Для повышения ширины полосы чувствительности применяют болометры инвертированного типа с поглотителями на основе тонких металлических поглотителей.
Изучены эволюционные свойства линии роста свободного дендрита в переохлажденном расплаве чистого вещества. Определены условия морфологической устойчивости / неустойчивости фазовой границы кристаллизации на конечном удалении от вершины дендрита. Для обработки известных в литературе экспериментальных данных о росте кристалла из однокомпонентного переохлажденного расплава предложен параметр роста, который несет информацию о кинетических свойствах фазовой границы кристаллизации и о теплофизических свойствах расплава. Для никеля и меди получены аппроксимирующие функции, определяющие зависимость параметра роста от переохлаждения расплава. Изучены пять вариантов возмущения линии роста, вычислены скорости волн возмущения, распространяющихся по пространственно-неоднородному фону. Указаны ситуации, для которых устойчивость / неустойчивость роста зависит от направления движения волны (к вершине либо от вершины); вычислено пороговое значение ширины зоны неоднородности фона. Определены частоты возбуждающих колебаний и параметр затухания возмущения во времени. Выполнены подробные числовые расчеты, позволившие сопоставить друг с другом свойств дендритного роста для никеля и меди. Дана приближенная аналитическая оценка скорости роста основания боковой ветви.
Исследованы МДП-структуры In/Al2O3/InSb и In/SiOx/АО/InSb методами низкочастотных и высокочастотных C-V характеристик. Диэлектрические слои на поверхности пластин антимонида индия диаметром 2 формировались методами атомно-слоевого осаждения и гибридным способом, включающим анодное окисление и термическое напыление. Были построены карты распределения фиксированного заряда и величины плотности состояний на границе раздела полупроводник-диэлектрик, оценена морфология поверхности. Распределение значений Dit по площади для МДП-структуры In/Al2O3/InSb не превышало 9 %. Средние значения фиксированного заряда, NF, для МДП-структур In/Al2O3/InSb и In/SiOx/АО/InSb составили 1,41011 см-2 и 2,91011 см 2, соответственно. Использование Al2O3, нанесённого методом атомно-слоевого осаждения, может быть использовано для пассивации фотодиодных матриц на основе антимонида индия.
В последние годы наблюдается быстрое совершенствование изделий фотоники, обусловленное использованием многослойных гетероструктур, выращенных на основе перспективных материалов; конструированием структуры фоточувствительного элемента (ФЧЭ) для достижения минимального темнового тока, что в свою очередь приводит к смене поколений матричных фотоприемных модулей (ФПМ). В работе рассматриваются ФПМ, детектирующие излучение в различных спектральных диапазонах ИК-области спектра: на основе эпитаксиальных структур InSb в диапазоне 3–5 мкм; на основе квантово-размерных QWIP-структур из GaAs/AlGaAs в диапазоне 7,8–9,3 мкм; на основе XBn-структур из InGaAs в диапазоне 0,9–1,7 мкм. Показаны наиболее близкие зарубежные аналоги и определены пути дальнейшего развития.
Описаны механизмы возникновения фотосигналов, архитектура и основные параметры фотосенсоров на основе моноатомных 2D-материалов элементов III, IV, V и VI групп главных подгрупп таблицы Менделеева, таких как графен и графеноподобные материалы, силицен, германен, черный фосфор, твердые растворы черный фосфор-мышьяк, антимонен, висмутен, теллурен, борофен и гетероструктуры, содержащие 2D-материалы, в том числе совместно с другими материалами пониженной размерности, а также фотосенсоры с использованием плазмонных наноантенн.
Исследуются процессы накопления и диссипации энергии в горячей плазме, создаваемой и удерживаемой в тороидальной магнитной ловушке стелларатор Л-2М. Изучаются особенности выхода плазмы на стационарную стадию удержания энергии. Начальная стадия разряда, инициированная СВЧ-импульсом в режиме электронного циклотронного резонансного нагрева плазмы (ЭЦР-нагрева), характеризуется сначала быстрым нарастанием энергии плазмы в течение 1 мс от начала СВЧ-нагрева, а затем быстрым (100 мкс) увеличением энергетических потерь плазмы, регистрируемых по диамагнитному сигналу. Эти процессы приводят к окончанию роста запасенной энергии в удерживаемой плазме. Показано, что свойства данного процесса при неизменной мощности СВЧ-нагрева 400 кВт существенно отличаются для различных значений электронной плотности. Обнаружено, что данный процесс связан в первую очередь с процессами, происходящими в краевой области плазмы, в которой расположен на границе плазменного шнура слой стохастических магнитных поверхностей. Обсуждается возможное влияние на данный процесс не-устойчивостей, возникающих в стохастическом слое, а также взаимодействия приграничной плазмы со стенками вакуумной камеры.
Издательство
- Издательство
- АО "НПО "ОРИОН"
- Регион
- Россия, Москва
- Почтовый адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- Юр. адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- ФИО
- Старцев Вадим Валерьевич (ГЕНЕРАЛЬНЫЙ ДИРЕКТОР)
- E-mail адрес
- orion@orion-ir.ru
- Контактный телефон
- +7 (499) 3749400