Архив статей

Повышение качества 100 мм Ge-подложек при серийном производстве многопереходных фотоэлектрических преобразователей (2026)
Выпуск: Том 14, №1 (2026)
Авторы: Кулаковская Т. В., Топаков Д. В., Трофимов А. А., Косякова А. М., Гончаров А. Е., Малыгин В. А., Гладышева К. А., Антонова В. Е., Суханова А. С.

Проведены исследования отечественных Ge-подложек диаметром 100 мм и толщиной 140 мкм, что позволило по результатам скорректировать технологический производственный процесс и привело к увеличению эффективности фотопреобразования серийно изготавливаемых с применением метода МОС-гидридной эпитаксии каскадных солнечных элементов GaInP/GaAs/Ge – достигнутый КПД составляет 29 %, что находится на уровне мировых аналогов.

Сохранить в закладках