Архив статей

Реактивные методы осаждения пленок оксидов титана (обзор) (2017)
Выпуск: Том 5, №5 (2017)
Авторы: Золотухин Денис Борисович, Бурдовицин Виктор Алексеевич, Тюньков Андрей Владимирович, Юшков Юрий Георгиевич, Окс Ефим Михайлович, Голосов Дмитрий Анатольевич, Завадский Сергей Михайлович

Обзор посвящен анализу преимуществ и недостатков существующих реактивных методов осаждения пленок оксида титана. Особое внимание уделено традиционным методам – магнетронному распылению в атмосфере активных газов и вакуумно-дуговому осаждению, а также обсуждаются возможности реактивного электронно-лучевого испарения, в том числе альтернативного электронно-лучевого испарения титана в форвакууме (1–15 Па) в атмосфере кислорода с последующим осаждением паров на подложку. Показано, что к преимуществам электронно-лучевого испарения в форвакууме следует отнести простоту реализации и возможность получения стехиометрических пленок TiO2, причем при более высокой скорости осаждения и меньшем энергопотреблении.

Сохранить в закладках
Генерация плазмы при ионизации газа электронными источниками в диапазоне давлений 1–100 Па (обзор) (2019)
Выпуск: Том 7, № 3 (2019)
Авторы: Климов Александр Сергеевич, Зенин Алексей Александрович, Золотухин Денис Борисович, Тюньков Андрей Владимирович, Юшков Юрий Георгиевич

В статье приведен обзор последних достижений в области генерации и исследования пучковой плазмы, получаемой при ионизации газа стационарным низкоэнергетичным пучком электронов в форвакуумном диапазоне давлений (1–100 Па). Представлены особенности взаимодействия стационарного электронного пучка c создаваемой им плазмой при его транспортировке в вакуумной камере большого объема, а также результаты исследования параметров плазмы, создаваемой при инжекции электронного пучка в сосуд с диэлектрическими стенками. Показано, что в зависимости от параметров электронного пучка, давления и рода газа возможно создание условий коллективного взаимодействия с зажиганием пучково-плазменного разряда, отличающегося повышенным значением концентрации и температуры плазменных электронов.

Сохранить в закладках