Архив статей

Влияние структурного совершенства пленок оксида цинка на их электрические и оптические свойства (2017)
Выпуск: №3 (2017)
Авторы: Муслимов Арсен Эмирбегович, Рабаданов Муртазали Хулатаевич, Исмаилов Абубакр (Абакар) Магомедович

Получены тонкие пленки ZnO на подложках (0001) Al2O3 с террасно-ступенчатой наноструктурой поверхности после термохимической нитридизации и с буферными слоями золота. Исследованы их электрические и фотолюминесцентные свойства. Наибольшую подвижность и удельное сопротивление имеют пленки ZnO, полученные на AlN/(0001) Al2O3, которые обладали высоким структурным совершенством. Применение Au в качестве буферных слоев также приводит к повышению структурного совершенства эпитаксиальных пленок ZnO. Однако при этом наблюдается значительное снижение подвижности, связанное с рассеянием на атомах золота, внедренных в решетку ZnO, и уменьшение концентрации носителей.

Сохранить в закладках
Ориентационные изменения в кристаллических пленках ZnO на темплейтах AlN/-Al2O3 в результате термического воздействия (2017)
Выпуск: №2 (2017)
Авторы: Муслимов Арсен Эмирбегович, Буташин Андрей Викторович, Смирнов Игорь Сергеевич, Новоселова Елена Григорьевна, Исмаилов Абубакр (Абакар) Магомедович, Бабаев Вагиф Алипулатович, Вовк Елена Александровна, Каневский Владимир Михайлович

В данной работе предложена методика формирования бинарных пленок AlN и ZnO неполярных и полуполярных ориентаций на сапфире термохимическим и термическим методами, а также выполнена их характеризация дифракционными и микроскопическими методами. Показано, что отжиг подложек сапфира с террасно-ступенчатой наноструктурой поверхности в восстановительной газовой среде при высокой температуре 1650 °С позволяет получать сплошные неполярные монокристаллическая пленка AlN с гексагональной структурой типа вюрцита. Приведены результаты постростового отжига (1200 °С) поликристаллической пленки ZnO толщиной около 1 мкм, нанесенной на поверхность темплейта (11 2 0) AlN/-Al2O3. Анализ полюсных фигур рентгеновской дифракции демонстрирует формирование в результате постростового отжига текстурированной полуполярной пленки 1011 ZnO. Такая методика формирования неполярных и полуполярных пленок AlN и ZnO может найти широкое применение в пьезоэлетронике и оптоэлектронике.

Сохранить в закладках