Доклад: Особенности процессов фотолитографии для изготовления матричных фоточувствительных структур на основе коллоидных квантовых точек
Докладчик

АО ″НПО ″ОРИОН″
Соавтор(ы)
Тальвеже В.В., Попов М.А., Еремкин Н.В.,
Ильинов Д.В., Мирофянченко Е.В., Панков М.А., Попов В.С., Пономаренко В.П.
Тип доклада
Устный
Секция программы
Дата и время
пятница, 07 фев (начало в 14:00)
Видео запись
1
Видео доклада доступно только авторизованным пользователям.
Материалы доклада
Тезисы
Тезисы не доступны.
Презентация
У доклада нет презентации.
Обсуждение доклада
Новых тем пока нет
Создайте тему для обсуждения, если у вас есть вопросы или предложения по докладу.
Другие доклады секции: 15
10:00 |
Термодинамические особенности синтеза пленок HgTe/GaAs методом молекулярно-лучевой эпитаксии
11:30 |
Перерыв
13:00 |
Обед
14:00 |
Особенности процессов фотолитографии для изготовления матричных фоточувствительных структур на основе коллоидных квантовых точек
15:15 |
Перерыв (подсчёт баллов)