Предложен метод плазмохимического получения поликристаллического кремния. Метод основан на разложении моносилана, подаваемого в реактор в виде сверхзвуковой струи и активированного с помощью электронного пучка. Проведено газодинамическое моделирование распределения потерь кремния в процессе осаждения. Определены коэффициент разложения моносилана с помощью масс-спектрометрических измерений, а также коэффициенты прилипания кремния к поверхности и коэффициент использования моносилана при помощи газодинамического моделирования и весовых измерений.
A method for the plasma-chemical production of polycrystalline silicon is proposed. The method is based on the decomposition of monosilane fed into the process in the form of a supersonic jet and activated by an electron beam. A gas-dynamic simulation of the distribution of silicon losses during the deposition process has been carried out. The decomposition coefficient of monosilane was determined using mass spectrometric measurements. Also, the silicon adhesion coefficient to the surface and the monosilane usage coefficient were determined using gas-dynamic model-ing and weight measurements.
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
- Префикс DOI
- 10.51368/1996-0948-2022-2-45-49
- eLIBRARY ID
- 48444727
Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.