Статья: Влияние локальных дефектов в окисных слоях на вольт-амперные характеристики кремниевых фотодиодов (2025)

Читать онлайн

Исследован механизма образования тока утечки в р+–n-переходах фотодиодов при наличии локальных дефектов. Рассмотрены закономерности образования локальных дефектов в диэлектрических слоях с целью определения условий, снижающих их плотность. На пластинах монокристаллического кремния (Cz-Si) n-типа диаметром 100 мм с удельным сопротивлением 4–5 Омсм и ориентацией (100) изготавливались элементы (ФЧЭ) с размером площадок 1,41,4 мм2. Технологический цикл изготовления включал операции окисления в парах H2O + HCl, фотолитографии, загонки (осаждения) бора из BN, диффузии бора и диффузии фосфора в различных режимах. В качестве источника диффузанта при диффузии фосфора использовались как жидкие источники POCL3 и PCL3, так и твердый источника – пластины метафосфата алюминия (МФА) (Al2O3, 3P2O5). Установлено, что вольт-амперная характеристика (ВАХ) кремниевых фотодиодов с аномальными «мягкими» характеристиками определяется туннельным механизмом протекания тока. Применение оптимальных режимов геттерирования приводит к резкому снижению количества фоточувствительных элементов с аномальными ВАХ.

The mechanism of leakage current formation in p+-n junctions of photodiodes in the presence of local defects is investigated. The patterns of formation of local defects in dielectric layers are considered in order to determine the conditions that reduce their density. On n-type monocrystalline silicon (Cz-Si) wafers with a diameter of 100 mm and a resistivity of 4–5 ohms. cm and orientation (100) were used to produce elements with a pad size of 1.41.4 mm2. The manufacturing process cycle included the operations of oxidation in H2O + HCl vapors, photolithography, corralling (precipitation) of boron from BN, boron diffusion and phosphorus diffusion in various modes. Both liquid sources POCL3 and PCL3 and solid sources – aluminum metaphasate (MFA) (Al2O3, 3P2O5) plates were used as a diffusant source during phosphorus diffusion. It has been established that the current-voltage characteristic of silicon photodiodes with anomalous “soft” characteristics is determined by the tunneling current flow mechanism. The use of optimal gettering modes leads to a sharp decrease in the number of photosensitive elements with anomalous current-voltage characteristic.

Ключевые фразы: кремниевые фотодиоды, монокристаллический кремний, дефекты, вольт-амперные характеристики
Автор (ы): Болтарь Константин Олегович, Вильдяева Мария Николаевна, Демидов Станислав Стефанович, Климанов Евгений Алексеевич, Молчанов Дмитрий Сергеевич, Макарова Элина Алексеевна, Попов Константин Алексеевич, Жукович-Гардеева Александра Александровна, Егоров Александр Васильевич
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.315.5. Проводники и полупроводники по виду материала
621.383. Фотоэлектроника
eLIBRARY ID
88774605
Для цитирования:
БОЛТАРЬ К., ВИЛЬДЯЕВА М. Н., ДЕМИДОВ С. С., КЛИМАНОВ Е. А., МОЛЧАНОВ Д. С., МАКАРОВА Э. А., ПОПОВ К. А., ЖУКОВИЧ-ГАРДЕЕВА А. А., ЕГОРОВ А. В. ВЛИЯНИЕ ЛОКАЛЬНЫХ ДЕФЕКТОВ В ОКИСНЫХ СЛОЯХ НА ВОЛЬТ-АМПЕРНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ КРЕМНИЕВЫХ ФОТОДИОДОВ // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2025. №6
Текстовый фрагмент статьи