Разработана математическая модель расчета зависимости коэффициента про-пускания эпитаксиальных слоев AlGaAs различного состава, входящих в состав многослойных гетероэпитаксиальных структур с квантоворазмерной активной областью, от длины волны излучения. Модель адаптирована под экспериментальные структуры с одним слоем AlGaAs, выращенным методом молекулярно-лучевой эпитаксии на подложке арсенида галлия. Под слои заданного состава подобрана и оптимизирована модель диэлектрической проницаемости, основанная на анализе энергетических переходов в зоне Бриллюэна соединений со структурой цинковой обманки с учетом непрямых переходов в зону проводимости. Проведенное исследование используется для оптимизации параметров эпитаксиального выращивания структур с целью уточнения характеристик матрицы фоточувствительных эле-ментов ИК-диапазона.
In this paper we developed the calculation model of AlGaAs epitaxial layers transmittance spectra. This model is used for parameters prediction of multilayer epitaxial structures with quantum-layer active frame grown by molecular-beam epitaxy. Results were applicated for different structures with one AlGaAs layer grown on GaAs substrate. Different compositions of AsGaAs were considered and analyzed. Dielectric function model which take into consideration different transitions in Brillouin zone of the A3B5 compounds was developed. This research is used for technology of IR FPA improvement.
Предпросмотр статьи
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
- eLIBRARY ID
- 41751374