Исследование возможности применения нейронных сетей при определении дефектов полупроводниковых материалов по изображениям растровой электронной микроскопии (2024)

Исследование посвящено разработке способа обнаружения дефектов в полупроводниковом производстве с помощью нейронных сетей по изображениям , полученным при помощи растрового электронного микроскопа. Проведено исследование метода, позволяющего сократить время обработки полученных изображений при поиске дефектов.

The research is devoted to the development of a method for detecting defects in semiconduc-tor manufacturing using neural networks in images obtained using a scanning electron mi-croscope. A study has been conducted on a method that allows to reduce the processing time of the obtained images when searching for defects.

Тип: Статья
Автор (ы): Малыгин Владислав Анатольевич
Соавтор (ы): Попов Виктор, Баженов Константин Эдуардович, Засядко Татьяна Алексеевна

Идентификаторы и классификаторы

УДК
621.315.592. Полупроводники
Префикс DOI
10.51368/1996-0948-2024-2-62-66