Применение фторидной плазмы для формирования наноразмерных структур на поверхности кремния (2022)

Изучается влияние длительности плазмохимической обработки кремниевых подложек во фторидной плазме. В качестве источника использовалась плазма гексафторида серы (SF6). Был проведён анализ полученных зависимостей шероховатости, высоты и угла наклона, сформированных при травлении, от времени плазмохимической обработки и от потока фторсодержащего газа. Длительность обработки во фторсодержащей плазме влияет на шероховатость вытравленной поверхности и геометрию вытравленной области, так при более длительной обработке во фторидной плазме возрастает шероховатость и угол полученной структуры. Изучение морфологии про-водилось на установке атомно-силовой микроскопии (АСМ). Было установлено, что по мере увеличения времени плазмохимической обработки увеличивался угол вытравленной структуры, зависимость шероховатости от времени имела условно два участка, интенсивно возрастающей до 60 сек и участок с мало меняющейся шероховатостью, но с большой дисперсией. При увеличении потока фторсодержащего газа линейно увеличивались угол вытравленной структуры, высота структуры и шероховатость вытравленной поверхности.

The purpose of this work is to study the effect of the time of plasma-chemical treatment of silicon substrates in fluoride plasma. The plasma of sulfur hexafluoride (SF6) was used as a source. An analysis was made of the obtained dependences of the roughness, height, and angle of inclination formed during etching, on the time of plasma-chemical treatment, and on the flow of fluorine-containing gas. The duration of treatment in fluorine-containing plasma affects the roughness of the etched surface and the geometry of the etched area, so with longer treatment in fluoride plasma, the roughness and angle of the resulting structure increase.

The study of morphology was carried out on the installation of atomic force microscopy (AFM). It was found that as the time of plasma-chemical treatment increased, the angle of the etched structure increased, the dependence of the roughness on time had conventionally two segments, intensively increasing up to 60 sec. and an area with little changing roughness, but with a large dispersion. With an increase in the flow of fluorine-containing gas, the angle of the etched structure, the height of the structure, and the roughness of the etched surface increased linearly.

Тип: Статья
Автор (ы): Климин Виктор Сергеевич
Соавтор (ы): Саенко Александр Викторович, Кесслер Илария Олеговна, Морозова Юлия Викторовна, Вакулов Захар Евгеньевич, Агеев Олег Алексеевич
Ключевые фразы: шероховатость

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
533.9.01. Теория и физика плазмы
Префикс DOI
10.51368/1996-0948-2022-6-23-28
eLIBRARY ID
50054134
Текстовый фрагмент статьи