Соотношение ионного и атомного компонентов бора в процессе формирования покрытия методами магнетронного распыления и электронно-лучевого испарения (2022)

Предложен метод экспериментального определения соотношения ионного и атомного компонентов бора в процессе формирования покрытия магнетронным распылением и электронно-лучевым испарением. Метод основан на сравнительном анализе приращения веса подложек оригинальных конденсационных зондов с поперечным магнитным полем и без него. Установлено, что при электронно-лучевом испарении определяющий вклад в формирование покрытия вносит ионная составляющая, а при магнетронном распылении – атомная. На основании оценки каждого из этих вкладов определено отношение концентрации атомарного и ионизованного компонентов бора в плазме электронного пучка и в плазме магнетронного разряда.

A method for experimental estimation of the ratio of ionic and atomic components in the process of coating formation by magnetron sputtering and electron-beam evaporation is proposed. The method is based on a comparative analysis of the weight increment of original condensation probe substrates with and without a transverse magnetic field. It was found that during electron-beam evaporation, the ionic component makes the decisive contribution to the formation of the coating, while during magnetron sputtering, the atomic one. Based on the evaluation of each of these contributions, the ratio of the concentrations of the atomic and ionized components of boron in the plasma of the electron beam and in the plasma of the magnetron discharge was determined.

Тип: Статья
Автор (ы): Юшков Георгий Юрьевич
Соавтор (ы): Юшков Юрий Георгиевич, Окс Ефим, Тюньков Андрей Владимирович
Ключевые фразы: ПЛЕНКИ БОРА

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
537.525. Электрические разряды в газах при пониженном давлении. Тлеющие разряды
Префикс DOI
10.51368/1996-0948-2022-4-22-28
eLIBRARY ID
49424557
Текстовый фрагмент статьи