Публикации автора

ОЦЕНКА ВЛИЯНИЯ ДОПУСКОВ НА ИЗГОТОВЛЕНИЕ БЫСТРОДЕЙСТВУЮЩИХ МАГНИТНЫХ ОТКЛОНЯЮЩИХ СИСТЕМ НА СИММЕТРИЮ ОТКЛОНЯЮЩИХ ПОЛЕЙ (1998)

Приводится методика расчёта и анализ результатов по влиянию допусков на отклонение реального поля быстродействующих магнитных отклоняющих систем от расчётного. Оценено нарушение симметрии магнитного поля при сдвиге, удлинении и изгибе отдельных проводников магнитных отклоняющих систем и стигматоров

АНАЛИЗ ВОЗМОЖНОСТИ ИСПОЛЬЗОВАНИЯ СВЕРХВЫСОКОВОЛЬТНОГО ЭЛЕКТРОННОГО МИКРОСКОПА СВЭМ-1 ДЛЯ ИССЛЕДОВАНИЯ РАДИАЦИОННОЙ СТОЙКОСТИ МАТЕРИАЛОВ (1998)

Рассмотрена возможность применения СВЭМ-1 для внесения радиационных дефектов в исследуемые материалы. Проведен расчет режимов работы осветительной системы СВЭМ-1 (ускоряющее напряжение ≤ 2 МэВ). Рассмотрены два варианта воздействия на объект: облучение сфокусированным электронным пучком или облучение рентгеновским излучением, возбуждаемым этим электронным пучком. Показано, что в СВЭМ-1 можно получить плотность мощности дозы до 2,5 · 107 Гр/(мм2 ·с). При этом удельная плотность мощности рентгеновского излучения, создаваемого электронным пучком, может достигать 3,3 · 106 Вm/мм2

Анализ факторов, влияющих на точность измерения электронной яркости (1998)

Рассмотрены вопросы количественной оценки ошибок измерения электронной яркости различными методами. Показано, что основная ошибка, возникающая при использовании линзового метода, является следствием неправомерного предположения, что при размещении апертурной диафрагмы в главной плоскости линзы апертурный угол в плоскости изображения может быть вычислен как отношение радиуса диафрагмы к расстоянию между диафрагмой и плоскостью изображения. Проведена количественная оценка ошибки такого приближения и показано, что ошибка расчета апертуры зависит от конструкции измерительной системы, а ошибка определения яркости может достигать +100 %.