Доклад: Разработка отечественного эпитаксиального и планарного оборудования для производства ЭКБ СВЧ-микроэлектроники, фотоники и фотоприемной техники на основе материалов АЗВ5 и А2В6
Докладчик
Алексеев Алексей НиколаевичАО ″НТО″
Соавтор(ы)
Алексеев В.А., Гердт А.Д., Карлин М.В., Новиков С.А., Старченко Г.О, Литвинов М.А.
Тип доклада
Пленарный
Конференция
Секция программы
Дата и время
среда, 27 мая (начало в 16:40)
Статистика доклада
Статистика просмотров за 2026 год.
Обсуждение доклада
Новых тем пока нет
Создайте тему для обсуждения, если у вас есть вопросы или предложения по докладу.
Другие доклады секции: 3
15:10 |
Средневолновые и длинноволновые ИК фотодиоды на основе InAs, InAsSb и InAsSbP, созданные в ФТИ им.А.Ф. Иоффе.
Ременный Максим Анатольевич•ФТИ ИМ. А.Ф. ИОФФЕ
Ременный Максим Анатольевич•ФТИ ИМ. А.Ф. ИОФФЕ
16:40 |
Разработка отечественного эпитаксиального и планарного оборудования для производства ЭКБ СВЧ-микроэлектроники, фотоники и фотоприемной техники на основе материалов АЗВ5 и А2В6
Алексеев Алексей Николаевич•АО ″НТО″