В результате рассмотрения структуры лавинного фотодиода на основе InGaAs/InP с раздельными областями поглощения и умножения проведена оценка дозы легирующей примеси в зарядовом слое, допустимый диапазон значений которой при заданном коэффициенте умножения определяется толщиной области умножения и напряженностью поля в области поглощения. Показано, что для снижения рабочего напряжения ЛФД необходимо уменьшать толщины слоя умножения и зарядового слоя. При этом ограничением для толщины слоя умножения является допустимая напряженность поля, а для зарядового слоя при оптимальной дозе – точность воспроизведения его толщины.
The assessment of a doping concentration dose in the charge layer is the result of describing the InGaAs/InP structure of the avalanche photodiode with separate areas of absorption and multiplication. The possible range of values of doping concentration dose at the set multiplication coefficient is defined by the thickness of the multiplication layer and the electric field in the absorption layer. It has been shown that the reduction of thicknesses in the multiplication layer and charge layer are necessary for working voltage reduction. The thickness multiplication layer is limited by the electric field intensity and the thickness charge layer, at the optimal dose, is limited by the thickness repeatability.
Предпросмотр статьи
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
- УДК
- 53. Физика
- eLIBRARY ID
- 26005013