Планарный магнетрон с инжекцией электронов и отражающим электродом: численное моделирование процессов функционирования (2022)

Выполнено численное моделирование влияния отражательного электрода на ионный состав плазмы планарного магнетрона, в разрядную область которого инжектируется электронный пучок с независимыми током и энергией электронов. Результаты численного моделирования свидетельствуют о том, что в такой конфигурации, более высокие значения концентрации ионов рабочего газа (аргона) и катода-мишени (меди) магнетрона достигаются за счет более высокой степени удержания в области гене-рации плазмы инжектированных электронов вследствие их частичного отражения и отклонения в тормозящем поле отражательного электрода. Результаты расчетов удовлетворительно согласуются с экспериментальным масс-зарядовым составом ионов плазмы такого магнетрона.

In this work, we performed numerical simulation of the effect of a reflective electrode on the ionic composition of the planar magnetron plasma, in which discharge region an electron beam with independently-controlled electron current and energy is injected. The results of numerical simulation indicate that in such a configuration, higher concentrations of ions of the working gas (argon) and the target cathode (copper) of the magnetron are achieved due to a higher degree of confinement in the region of plasma generation of injected electrons due to their partial reflection and deflection in retarding field of the reflective electrode. The simulation results agree satisfactorily with the experimental mass-charge composition of the plasma ions of such a magnetron.

Тип: Статья
Автор (ы): Золотухин Денис Борисович
Ключевые фразы: ПЛАНАРНЫЙ МАГНЕТРОН

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
537.533.9. Действие пучков электронов
537.563. Способы ионизации газов
Префикс DOI
10.51368/1996-0948-2022-5-19-24
eLIBRARY ID
49606204
Текстовый фрагмент статьи