Работы автора

Проведено осаждение пленок оксида меди методом высокочастотного (ВЧ) магнетронного распыления в бескислородной среде при комнатной температуре. Исследовано влияние температуры отжига на воздухе после осаждения на морфологию поверхности, структурные и оптические свойства пленок оксида меди. Показано, что все пленки имеют равномерную нанокристаллическую зернистую структуру. При этом пленки оксида меди, полученные без термического отжига и при температуре отжига 250 С, имеют высокую однородность и состоят из зерен размером порядка 25–30 и 23–27 нм соответственно. При температуре отжига 500 С размер зерен в пленке существенно возрастает до 50–55 нм и они становятся менее однородными. Получено, что все пленки имеют относительно гладкую поверхность со средней шероховатостью в диапазоне от 5,94 до 10,46 нм. Показано, что пленки, полученные без термического отжига, состоят из кристаллической фазой Cu2O, которая полностью переходят в фазу CuO после отжига при температуре 500 С. Установлено, что ширина запрещенной зоны осажденной пленки без термического отжига составляет 2,18 эВ и уменьшается до 1,63 эВ после отжига при температуре 500 С. Полученные результаты могут быть использованы при разработке технологических процессов формирования структур солнечных элементов на основе оксида меди

В статье рассматриваются основополагающие принципы проектирования и критерии размещения высокоточных производств, предназначенных для выпуска микроэлектронных компонентов и исследования структур микронного и субмикронного уровней. Основное внимание в статье уделено защите от вибрации естественного и техногенного происхождения, присутствующей практически в любом месте строительства. Основная цель минимизации вибраций – не допускать возникновения колебаний, способных искажать измерительные данные и нарушать работу высокоточного оборудования, такого как электронные микроскопы, литографические установки и системы нанометрового контроля. При размещении высокоточного оборудования последнего поколения устанавливают предельно допустимые уровни виброскорости от 3 мкм/с до 0,5 мкм/с или меньше в зависимости от его точности и целей исследований. Вибрации, передаваемые через конструкции здания, должны быть минимизированы путём применения изолированных фундаментов, использования виброизолирующих материалов и систем активной виброизоляции.