Статья: Исследование возможности применения нейронных сетей при определении дефектов полупроводниковых материалов по изображениям растровой электронной микроскопии
Исследование посвящено разработке способа обнаружения дефектов в полупроводниковом производстве с помощью нейронных сетей по изображениям , полученным при помощи растрового электронного микроскопа. Проведено исследование метода, позволяющего сократить время обработки полученных изображений при поиске дефектов.
Информация о документе
- Формат документа
 - Кол-во страниц
 - 1 страница
 - Загрузил(а)
 - Лицензия
 - —
 - Доступ
 - Всем
 
Информация о статье
- ISSN
 - 1996-0948
 - EISSN
 - 2949-561X
 - Префикс DOI
 - 10.51368/1996-0948-2024-2-62-66
 - Журнал
 - Прикладная физика
 - Год публикации
 - 2024
 
Статистика просмотров
Статистика просмотров статьи за 2025 год.