Полученные экспериментальные результаты позволяют утверждать, что при наличии напряжения между мишенью и подложкой наблюдается процесс ионного перемешивания имплантации ионов W в медную подложку. Это увеличивает толщину переходного слоя “медь-вольфрам’’·и обеспечивает лучшую адгезию нанесенного покрытия.
ЛИМ позволяет в едином вакуумном цикле комбинировать процессы формирования покрытия:
ионное травление (очистка) подложки и образующегося покрытия; ионное легирование атомов покрытия в подложку и в образующееся покрытие;
ионное перемешивание атомов покрытия и подложки; термическое осаждение атомов покрытия;
отжиг дефектов покрытия.
Это дает возможность реализовать достоинства каждого процесса и получать высокие чистоту и адгезию покрытий; сплошные покрытия, толщина которых регулируется с точностью до монослоя; покрытия из сложных соединений, содержащие тугоплавкие материалы.
Таким образом, перспективность ЛИМ нанесения покрытий определяется совокупностью таких качеств, как:
принципиальная возможность использования непрерывных лазеров, что существенно повышает скорость роста покрытия;
достоинства лазерного напыления и эпитаксии в вакууме;
высокая адгезия покрытия даже из нерастворимых материалов;
возможность получения тонких покрытий на внутренних поверхностях цилиндрических подложек, например, катодов или анодов;
нахождение источника лазерного излучения вне вакуумной камеры;
возможность работы·установки в режимах ЛИМ напыления и лазерного напыления в вакууме; возможность легкой автоматизации процесса путем введения в вакуумную камеру подложкодержателей карусельного типа.