Статья: Формирование сверхтонких сплошных пленок методом ионно-лучевой обработки (2018)

Читать онлайн

Предложен и исследован метод формирования сверхтонких (~ нм) пленок металлов и диэлектриков. Суть метода состоит в оптимизации соотношения скоростей нанесения тонких пленок и их одновременного травления пучком ионов, что позволяет управлять структурой пленок и их адгезией к подложке. Проведены исследования процессов формирования сверхтонких слоев меди (или серебра) и слоя диоксида гафния в едином вакуумном цикле. Проведено осаждение структур Si/SiO2/Cu/HfO2 и Si/SiO2/Ag/HfO2. Скорость осаждения слоев металлов составляет примерно 1 нм/мин, слоя диоксида гафния – 0,65 нм/мин.

An ultrathin ( nm) metal films producing method has been proposed and investigated. The method is based on optimization the relation between the film deposition rate and the simultaneous sputtering/ etching rate. It provides to control the film structure and film adhesion to the substrate. The ultrathin copper (or silver) and hafnia films formation process during a single vacuum cycle has been studied. The structures Si/SiO2/Cu/HfO2 and Si/SiO2/Ag/HfO2 have been deposited. The metal deposition rate is about 1 nm/min, and the hafnia deposition rate is about 0.65 nm/min.

Ключевые фразы: осаждение, сверхтонкие пленки, ионно-лучевая обработка, единый вакуумный цикл
Автор (ы): Маишев Юрий Петрович, Шевчук Сергей Леонидович, Кудря Владимир Петрович
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
537.53. Испускание излучения или частиц при разрядах
621.384.5. Техническое применение тлеющего разряда
eLIBRARY ID
35653668
Для цитирования:
МАИШЕВ Ю. П., ШЕВЧУК С. Л., КУДРЯ В. П. ФОРМИРОВАНИЕ СВЕРХТОНКИХ СПЛОШНЫХ ПЛЕНОК МЕТОДОМ ИОННО-ЛУЧЕВОЙ ОБРАБОТКИ // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2018. №4
Текстовый фрагмент статьи